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1. (WO2018142464) 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク、および有機半導体素子の製造方法

Pub. No.:    WO/2018/142464    International Application No.:    PCT/JP2017/003409
Publication Date: Fri Aug 10 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Feb 01 00:59:59 CET 2017
IPC: C23C 14/04
H01L 51/50
H05B 33/10
Applicants: SAKAI DISPLAY PRODUCTS CORPORATION
堺ディスプレイプロダクト株式会社
Inventors: NISHIDA, Koshi
西田 光志
SAKIO, Susumu
崎尾 進
KISHIMOTO, Katsuhiko
岸本 克彦
Title: 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク、および有機半導体素子の製造方法
Abstract:
樹脂層(10)と、樹脂層(10)上に形成された磁性金属体(20)とを備えた蒸着マスク(100)の製造方法であって、(A)少なくとも1つの第1開口部(25)を有する磁性金属体(20)を用意する工程と、(B)基板(60)を用意する工程と、(C)基板(60)の表面に樹脂材料を含む溶液または樹脂材料のワニスを付与した後、熱処理を行うことによって樹脂層(10)を形成する工程と、(D)基板(60)に形成された樹脂層(10)を、磁性金属体(20)上に、少なくとも1つの第1開口部(25)を覆うように固定する工程と、(E)樹脂層(10)のうち磁性金属体(20)の少なくとも1つの第1開口部(25)内に位置する領域に、複数の第2開口部(13)を形成する工程と、(F)工程(E)の後、樹脂層(10)から基板(60)を剥離する工程とを包含する。