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1. (WO2018139532) 半導体装置の製造方法
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国際公開番号: WO/2018/139532 国際出願番号: PCT/JP2018/002277
国際公開日: 02.08.2018 国際出願日: 25.01.2018
IPC:
G01R 31/26 (2014.01) ,H01L 21/66 (2006.01)
[IPC code unknown for G01R 31/26][IPC code unknown for H01L 21/66]
出願人:
株式会社デンソー DENSO CORPORATION [JP/JP]; 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 1-1, Showa-cho, Kariya-city, Aichi 4488661, JP
発明者:
青木 孝明 AOKI Takaaki; JP
伊藤 正和 ITOH Masakazu; JP
代理人:
特許業務法人ゆうあい特許事務所 YOU-I PATENT FIRM; 愛知県名古屋市中区錦一丁目6番5号 名古屋錦シティビル4階 Nagoya Nishiki City Bldg. 4F 1-6-5, Nishiki, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600003, JP
優先権情報:
2017-01159225.01.2017JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF À SEMICONDUCTEUR
(JA) 半導体装置の製造方法
要約:
(EN) A Vg-Ic characteristic at a first temperature; e.g.,room temperature, is measured, and a first threshold value voltage Vth1 is calculated. Next, a Vg-Ic characteristic at a second temperature; e.g., -40°C, is measured, and a second threshold value voltage Vth2 is calculated. On the basis of the value of Vth2 - Vth1, it is determined that a product is a normal, non-defective product if Vth2 - Vth1 ≈ 1, and it is determined that the product is a potentially defective product and an initially defective product if Vth2 = Vth1 < 1.
(FR) L'invention concerne la mesure d'une caractéristique Vg-Ic à une première température, par exemple la température ambiante et le calcul d'une première tension de seuil Vth1. Ensuite, une caractéristique Vg-Ic à une seconde température, par exemple -40 °C, est mesurée, et une seconde tension de seuil Vth2 est calculée. En fonction de la valeur de Vth2 - Vth1, on détermine qu'un produit est un produit normal non défectueux si Vth2 - Vth1 ≈ 1, et on détermine que le produit est un produit potentiellement défectueux et un produit initialement défectueux si Vth2 = Vth1 < 1.
(JA) 第1温度として例えば室温でのVg-Ic特性を測定すると共に第1閾値電圧Vth1を算出する。続いて、第2温度として例えば-40℃でのVg-Ic特性を測定すると共に第2閾値電圧Vth2を算出する。そして、Vth2-Vth1の値に基づいて、Vth2-Vth1≒1であれば通常の良品と判別し、Vth2-Vth1<1であれば潜在的な不良品および初期不良品と判別する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)