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1. (WO2018139274) 偏光光照射装置及び偏光光照射方法
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国際公開番号: WO/2018/139274 国際出願番号: PCT/JP2018/001071
国際公開日: 02.08.2018 国際出願日: 16.01.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G02F 1/1337 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1337
液晶分子の界面による配向,例.配向層
出願人:
株式会社ブイ・テクノロジー V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県横浜市保土ヶ谷区神戸町134番地 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005, JP
発明者:
新井 敏成 ARAI Toshinari; JP
竹下 琢郎 TAKESHITA Takuro; JP
代理人:
坂田 ゆかり SAKATA Yukari; JP
優先権情報:
2017-01179726.01.2017JP
発明の名称: (EN) POLARIZED LIGHT RADIATION DEVICE AND POLARIZED LIGHT RADIATION METHOD
(FR) DISPOSITIF DE RAYONNEMENT LUMINEUX POLARISÉ ET PROCÉDÉ DE RAYONNEMENT LUMINEUX POLARISÉ
(JA) 偏光光照射装置及び偏光光照射方法
要約:
(EN) An alignment film that causes the pretilt angle of liquid crystal molecules to be small can be produced by a photoalignment process. Polarized light emitted from a light source (211) and transmitted through a light transmission region formed in a mask (32) is radiated onto an object (W) to be exposed resting on a stage (11). The polarized light is radiated onto the object (W) to be exposed from a direction inclined approximately 50-70 degrees in relation to the direction approximately orthogonal to the upper surface of the stage (11).
(FR) La présente invention concerne un film d'alignement qui amène l'angle de pré-inclinaison de molécules de cristaux liquides à être petit, et qui peut être produit par un processus de photo-alignement. La lumière polarisée émise par une source de lumière (211) et transmise à travers une région de transmission de lumière formée dans un masque (32) est émise sur un objet (W) à exposer reposant sur un support (11). La lumière polarisée est émise sur l'objet (W) à exposer à partir d'une direction inclinée d'environ 50 à 70 degrés par rapport à la direction approximativement orthogonale à la surface supérieure du support (11).
(JA) 光配向処理により、液晶分子のプレチルト角が小さくなるような配向膜を生成することができる。 光源(211)から出射され、マスク(32)に形成された光透過領域を透過した偏光光は、ステージ(11)に載置された露光対象物(W)に照射される。偏光光は、ステージ(11)の上面と略直交する方向に対して、略50度から略70度傾いた方向から露光対象物(W)へ照射される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)