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1. (WO2018139154) 撮像素子および撮像素子の製造方法

Pub. No.:    WO/2018/139154    International Application No.:    PCT/JP2017/046792
Publication Date: Fri Aug 03 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Dec 27 00:59:59 CET 2017
IPC: H01L 27/146
Applicants: NIKON CORPORATION
株式会社ニコン
Inventors: NAKAYAMA Satoshi
中山 智史
ANDO Ryoji
安藤 良次
Title: 撮像素子および撮像素子の製造方法
Abstract:
第1導電型の基板(10)と,基板上に設けられ,基板よりも低濃度の第1導電型の素子形成部(20)と,素子形成部に設けられ,受光素子(32)と,受光素子とは異なる領域に設けられた第2導電型のキャリア吸収部(80)とをそれぞれ有し,2次元状に配列された複数の画素部(30)とを備え,複数の画素部のうち少なくとも一つの画素部は,受光素子よりも基板側に,複数の画素部の配列方向において受光素子の少なくとも一部と重なるように設けられ,基板よりも高濃度の第1導電型の第1壁部(41)と,複数の画素部の配列方向において第1壁部が設けられていないキャリア通過領域(Rcp)とを有する撮像素子を提供する。