このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018139125) 基体保護膜、付着防止部材及び付着防止部材の形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/139125 国際出願番号: PCT/JP2017/045923
国際公開日: 02.08.2018 国際出願日: 21.12.2017
IPC:
C03C 17/42 (2006.01) ,B08B 17/02 (2006.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,B32B 9/00 (2006.01) ,C03C 17/38 (2006.01)
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
17
繊維やフィラメントの形態をとらないガラス,例.結晶化ガラス,の被覆による表面処理
34
組成の異る少くとも2種の被覆を有するもの
42
少くとも1つが有機物質の被覆でありかつ少くとも1つが非金属被覆であるもの
B 処理操作;運輸
08
清掃
B
清掃一般;汚れ防止一般
17
汚れ防止の方法
02
塵または汚れの付着防止
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
7
層間の関係を特徴とする積層体,すなわち本質的に異なる物理的性質を有する層または層の相互連続を特徴とする積層体
02
物理的性質,例.堅さ,に関するもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
9
本質的にグループ11/00~29/00に包含されない特殊な物質からなる積層体
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
17
繊維やフィラメントの形態をとらないガラス,例.結晶化ガラス,の被覆による表面処理
34
組成の異る少くとも2種の被覆を有するもの
36
少くとも1つの被覆が金属であるもの
38
少くとも1つの被覆が有機物質の被覆であるもの
出願人:
星和電機株式会社 SEIWA ELECTRIC MFG. CO., LTD. [JP/JP]; 京都府城陽市寺田新池36番地 36 Terada-Shinike, Joyo-shi, Kyoto 6100192, JP
発明者:
緒方 四郎 OGATA Shiro; JP
須田 修平 SUDA Shuhei; JP
高宮 祥太 TAKAMIYA Shota; JP
代理人:
特許業務法人あーく特許事務所 ARC PATENT ATTORNEYS' OFFICE; 大阪府大阪市北区曽根崎1丁目1番2号 1-2, Sonezaki 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300057, JP
優先権情報:
2017-01012324.01.2017JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE PROTECTION FILM, ANTI-ADHESION MEMBER, AND METHOD FOR FORMING ANTI-ADHESION MEMBER
(FR) FILM DE PROTECTION DE SUBSTRAT, ÉLÉMENT ANTIADHÉSIF ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN ÉLÉMENT ANTIADHÉSIF
(JA) 基体保護膜、付着防止部材及び付着防止部材の形成方法
要約:
(EN) [Problem] To provide a substrate protection film which can reduce the adhesion of a substance onto the surface of a substrate more effectively than a substance adhesion reduction effect achieved by an electrostatic repulsion force. [Solution] A first layer (a charge retention layer 3) containing a charged substance and having an electrostatic repulsion force is formed on the surface of a substrate 1, and then a second layer (a functional group layer 4 that comprises a functional group having a functional group length of less than 1 nm and having a surface free energy of as low as 50 mJ/m2 or less) for controlling a surface free energy is formed on the surface of the first layer. When the substrate protection film 2 is formed in this manner, it becomes possible to reduce the adhesion of a substance which is caused by an intermolecular force while retaining the electrostatic repulsion force on the surface of the substrate 1, and therefore it becomes possible to reduce the adhesion of a substance onto the surface of the substrate 1 more effectively than a substance adhesion reduction effect achieved by an electrostatic repulsion force.
(FR) Le problème à la base de la présente invention concerne un film de protection de substrat qui peut réduire l'adhérence d'une substance sur la surface d'un substrat de manière plus efficace qu'un effet de réduction d'adhérence d'une substance obtenu par une force de répulsion électrostatique. Selon la solution selon l'invention, une première couche (une couche de rétention de charge 3) contenant une substance chargée et présentant une force de répulsion électrostatique est formée sur la surface d'un substrat 1 puis une deuxième couche (une couche de groupe fonctionnel 4 qui comprend un groupe fonctionnel présentant une longueur de groupe fonctionnel inférieure à 1 nm et présentant une énergie superficielle libre inférieure aussi basse que 50 mJ/m2 ou moins) pour réguler une énergie superficielle libre est formée sur la surface de la première couche. Lorsque le film 2 de protection de substrat est formé de cette manière, il devient possible de réduire l'adhérence d'une substance qui est provoquée par une force intermoléculaire tout en conservant la force de répulsion électrostatique sur la surface du substrat 1 et, par conséquent, il devient possible de réduire l'adhérence d'une substance sur la surface du substrat 1 plus efficacement qu'un effet de réduction d'adhérence de substance obtenu par une force de répulsion électrostatique.
(JA) 【課題】静電的反発力による物質付着の低減効果以上に基体表面への物質の付着を低減することが可能な基体保護膜を提供する。 【解決手段】帯電物質を含み静電的反発力を持つ第1層(電荷保持層3)を基体1表面上鵜に形成し、その第1層の表面上に、表面自由エネルギを制御する第2層(官能基長さが1nm未満でかつ50mJ/m2以下の低表面自由エネルギの官能基からなる官能基層4)を形成する。このようにして基体保護膜2を形成することにより、基体1表面上の静電的反発力を保持しつつ、分子間力による物質付着を低減することが可能になるので、静電的反発力のみによる物質付着の低減効果以上に、基体1表面への物質の付着を低減することができる。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)