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1. (WO2018135593) 細胞の製造方法および細胞を製造するためのキット
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/135593 国際出願番号: PCT/JP2018/001441
国際公開日: 26.07.2018 国際出願日: 18.01.2018
IPC:
C12N 5/00 (2006.01) ,C12M 3/00 (2006.01)
C 化学;冶金
12
生化学;ビール;酒精;ぶどう酒;酢;微生物学;酵素学;突然変異または遺伝子工学
N
微生物または酵素;その組成物;微生物の増殖,保存,維持;突然変異または遺伝子工学;培地
5
ヒト,動物または植物の未分化細胞,例.セルライン;組織;その培養または維持;そのための培地
C 化学;冶金
12
生化学;ビール;酒精;ぶどう酒;酢;微生物学;酵素学;突然変異または遺伝子工学
M
酵素学または微生物学のための装置
3
組織,ヒト,動物または植物細胞,あるいはウイルスの培養装置
出願人: AGC INC.[JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405, JP
発明者: NAKANISHI Tomoaki; JP
SHIMOSAKA Takamichi; JP
EGUCHI Hajime; JP
OKI Satoshi; JP
代理人: SENMYO Kenji; JP
OGAWA Toshiharu; JP
KIM Jin-Moon; JP
HIKINO Ken; JP
YOKOI Daiichiro; JP
優先権情報:
2017-00864620.01.2017JP
2017-24891826.12.2017JP
発明の名称: (EN) CELL PRODUCTION METHOD AND KIT FOR PRODUCING CELLS
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELLULES ET KIT DE PRODUCTION DE CELLULES
(JA) 細胞の製造方法および細胞を製造するためのキット
要約:
(EN) Provided is a production method for cells, whereby cells cultured on a cell culture substrate can be more easily recovered. The cell production method has: a culture step in which cells are cultured upon a water repellant layer of the cell culture substrate having a substrate main body and the water repellant layer arranged upon the substrate main body; and a recovery step in which the water repellant layer and a solvent are caused to come in contact and cells are separated and recovered from on the water repellant layer. The cell production method is characterized by the solvent having elastic modulus B/elastic modulus A being no more than 0.2. Elastic modulus B/elastic modulus A is the ratio between: an elastic modulus B for the water repellant layer at the section of contact between the water repellant layer and the solvent, measured when the water repellant layer and the solvent are caused to come in contact; and an elastic modulus A for the water repellant layer in a section of contact between the water repellant layer and phosphate buffered saline measured when the water repellant layer and phosphate buffered saline are caused to come in contact.
(FR) La présente invention concerne un procédé de production de cellules, moyennant quoi des cellules cultivées sur un substrat de culture de cellules peuvent être plus facilement récupérées. Le procédé de production de cellules présente : une étape de culture dans laquelle des cellules sont cultivées sur une couche hydrofuge du substrat de culture de cellules ayant un corps principal de substrat et une couche hydrofuge disposée sur le corps principal de substrat; et une étape de récupération dans laquelle la couche hydrofuge et un solvant sont amenés à entrer en contact et les cellules sont séparées et récupérées de la couche hydrofuge. Le procédé de production de cellules est caractérisé en ce que le solvant présente un module élastique (B)/module élastique (A) n'étant pas supérieur à 0,2. Le module élastique (B)/module élastique (A) étant le rapport entre : un module élastique (B) pour la couche hydrofuge à la section de contact entre la couche hydrofuge et le solvant, mesuré lorsque la couche hydrofuge et le solvant sont amenés à entrer en contact; et un module élastique (A) pour la couche hydrofuge dans une section de contact entre la couche hydrofuge et une solution saline tamponnée au phosphate mesuré lorsque la couche hydrofuge et la solution saline tamponnée au phosphate sont amenées à entrer en contact.
(JA) より簡便に細胞培養基材上で培養された細胞を回収し得る、細胞の製造方法を提供する。 基材本体と基材本体上に配置された撥水層とを有する細胞培養基材の撥水層上で細胞の培養を行う培養工程と、撥水層と溶媒とを接触させて、撥水層上から細胞を剥離して回収する回収工程とを有し、前記溶媒が、下記弾性率B/弾性率Aが0.2以下となる溶媒であることを特徴とする細胞の製造方法。 弾性率B/弾性率A:撥水層とリン酸緩衝生理食塩水とを接触させて測定される撥水層とリン酸緩衝生理食塩水との接触部分での撥水層の弾性率Aに対する、撥水層と溶媒とを接触させて測定される撥水層の溶媒との接触部分での撥水層の弾性率Bの比。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)