国際・国内特許データベース検索

1. (WO2018135565) 液晶パネル製造方法

Pub. No.:    WO/2018/135565    International Application No.:    PCT/JP2018/001345
Publication Date: Fri Jul 27 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Jan 19 00:59:59 CET 2018
IPC: G02F 1/13
G02F 1/1333
G09F 9/00
Applicants: NSC CO. , LTD.
株式会社NSC
Inventors: KAYANO Shingo
茅野 真吾
DOZONO Yoshiyuki
堂園 哲孝
YAMAUCHI Hiroyuki
山内 寛之
KASHIHARA Yasuhiro
柏原 康宏
Title: 液晶パネル製造方法
Abstract:
【課題】エッチング処理に伴うマスキング処理を不要にし、サイドエッチングの影響を最小限に抑制することが可能な液晶パネル製造方法を提供する。 【解決手段】液晶パネル製造方法は、改質ライン形成ステップ、溝形成ステップ、エッチングステップ、および切断ステップを少なくとも含む。改質ライン形成ステップでは、アレイ基板およびカラーフィルタ基板に対して、液晶パネルの形状に対応する形状切断予定線に沿って形成される改質ラインであって、他の箇所よりもエッチングされ易い性質を有する改質ラインを形成する。溝形成ステップでは、カラーフィルタ基板に対して、このカラーフィルタ基板におけるアレイ基板の電極端子部に対向する領域を取り除くための端子部切断予定線に沿って溝を形成する。