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1. (WO2018131499) 中空状多孔質石英ガラス母材の製造方法
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国際公開番号: WO/2018/131499 国際出願番号: PCT/JP2017/047180
国際公開日: 19.07.2018 国際出願日: 28.12.2017
IPC:
C03B 8/04 (2006.01) ,C03B 20/00 (2006.01)
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
B
ガラス、鉱物またはスラグウールの製造または成形;または、ガラス、鉱物またはスラグウールの製造または成形における補助プロセス
8
溶融法以外の方法によるガラスの製造
04
気相反応法によるもの
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
B
ガラス、鉱物またはスラグウールの製造または成形;または、ガラス、鉱物またはスラグウールの製造または成形における補助プロセス
20
石英または溶融シリカ物品の製造に特に適合したプロセス
出願人:
信越石英株式会社 SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. [JP/JP]; 東京都新宿区西新宿1丁目22番2号 22-2, Nishishinjuku 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023, JP
ヘレウス クアルツグラース ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディット ゲゼルシャフト HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG [DE/DE]; ハナウ、クアルツシュトラーセ 8 Quarzstrasse 8, Hanau D63450, DE (AL, AT, BE, BG, CH, CN, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR, US)
発明者:
角 児太郎 SUMI, Kotaro; JP
桑原 ひかり KUWAHARA, Hikari; JP
代理人:
石原 進介 ISHIHARA, Shinsuke; JP
石原 詔二 ISHIHARA, Shoji; JP
優先権情報:
2017-00242811.01.2017JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING HOLLOW POROUS QUARTZ GLASS BASE MATERIAL
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN MATÉRIAU DE BASE EN VERRE DE QUARTZ POREUX CREUX
(JA) 中空状多孔質石英ガラス母材の製造方法
要約:
(EN) Provided are a method for producing a hollow porous quartz glass base material, and a method for producing a synthetic quartz glass cylinder, wherein even when the hollow porous quartz glass base material (soot body) is produced in large weight and high bulk density, the ease of target extraction is maintained and target extraction is performed stably, and a large weight soot body can be produced. The method for producing a hollow porous quartz glass base material comprises: a step for preparing a heat resistant substrate, which has a columnar or cylindrical shape and has an outer surface on which SiO2 particles are deposited, the outer surface having a surface roughness in which the maximum height Rz is less than 9 μm and the arithmetic average roughness Ra is less than 1 μm; a step for rotating the heat resistant substrate and depositing SiO2 particles on the outer surface of the heat resistant substrate to form a glass particulate deposit; and a step for extracting the heat resistant substrate from the glass particulate deposit to produce a hollow porous quartz glass base material.
(FR) L'invention concerne un procédé de production d'un matériau de base en verre de quartz poreux creux, et un procédé de production d'un cylindre en verre de quartz synthétique, où même quand le matériau de base en verre de quartz poreux creux (corps de suie) produit est d'un poids et d'une densité apparente élevés, la facilité d'extraction de la cible est conservée et l'extraction de la cible s'effectue de manière stable, et un corps de suie de grand poids peut être obtenu. Le procédé de production d'un matériau de base en verre de quartz poreux creux comprend : une étape de préparation d'un substrat résistant à la chaleur, ayant une forme colonnaire ou cylindrique et une surface externe sur laquelle des particules de SiO2 sont déposées, où la surface externe a une rugosité de surface d'une hauteur maximale Rz inférieure à 9 µm et une rugosité moyenne arithmétique Ra inférieure à 1 µm; une étape de rotation du substrat résistant à la chaleur et de dépôt de particules de SiO2 sur la surface externe du substrat résistant à la chaleur pour former un dépôt de particules de verre; et une étape d'extraction du substrat résistant à la chaleur du dépôt de particules de verre pour obtenir ledit matériau de base en verre de quartz poreux creux.
(JA) 中空状多孔質石英ガラス母材(スート体)の大重量化と高嵩密度化を行ってもターゲットの抜き出しの容易性を保ち、安定してターゲットの抜き出しを行い、大重量スート体を製造することができる、中空状多孔質石英ガラス母材の製造方法及び合成石英ガラスシリンダの製造方法を提供する。 円柱状又は円筒状の耐熱性基体であり、SiO粒子を堆積させる外表面の表面粗さが、最大高さRzが9μm未満であり且つ算術平均粗さRaが1μm未満である耐熱性基体を準備する工程と、該耐熱性基体を回転させ、該耐熱性基体の外表面にSiO粒子を堆積させてガラス微粒子堆積体を形成する工程と、該ガラス微粒子堆積体から該耐熱性基体を抜き取り、中空状多孔質石英ガラス母材を製造する工程と、を含むようにした。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
KR1020190051072