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1. (WO2018131428) 基板処理装置および基板処理方法

Pub. No.:    WO/2018/131428    International Application No.:    PCT/JP2017/046095
Publication Date: Fri Jul 20 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Sat Dec 23 00:59:59 CET 2017
IPC: H01L 21/304
B08B 3/02
Applicants: SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
株式会社SCREENホールディングス
Inventors: NISHIMURA, Yuta
西村 優大
KOBAYASHI, Kenji
小林 健司
NEGORO, Sei
根来 世
Title: 基板処理装置および基板処理方法
Abstract:
基板処理装置は、基板を水平姿勢に保持するための基板保持ユニットと、前記基板保持ユニットに保持されている基板の上面に対向する下部開口、および上下方向の筒状空間であって前記下部開口から上方に連なる筒状空間を区画する内壁を有し、前記下部開口から処理液を吐出する処理液ノズルと、前記下部開口と前記基板の上面との間を処理液で液密に満たす第1の液柱部分と、前記第1の液柱部分から上方に連なり、前記筒状空間に溜められた処理液からなる第2の液柱部分とを含む処理液の液柱を、前記基板の上面に形成する液柱形成ユニットと、前記第2の液柱部分に物理力を付与する物理力付与ユニットとを含む。