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1. (WO2018131341) 研磨用組成物

Pub. No.:    WO/2018/131341    International Application No.:    PCT/JP2017/044018
Publication Date: Fri Jul 20 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Dec 08 00:59:59 CET 2017
IPC: C09K 3/14
B24B 37/00
H01L 21/304
Applicants: FUJIMI INCORPORATED
株式会社フジミインコーポレーテッド
Inventors: YARITA, Satoru
鎗田 哲
YOSHIZAKI, Yukinobu
吉▲崎▼ 幸信
Title: 研磨用組成物
Abstract:
研磨対象物を研磨するために用いられる、砥粒と、分散媒と、添加剤とを含む、研磨用組成物であって、前記砥粒が、表面修飾されており、前記添加剤が、下記式1: 上記式1中、X1が、OまたはNR4であり、X2が、単結合またはNR5であり、R1~R5が、それぞれ独立して、水素原子;水酸基;ニトロ基;ニトロソ基;カルボキシル基、アミノ基もしくは水酸基で置換されてもよい炭素数1~4のアルキル基;またはCONH2;である、ただし、R2と、R5とは環を形成してもよく;X2が単結合のとき、R3は水素原子ではなく、または、R1~R3がメチル基ではなく;X2がNR5のときであって、R1~R3およびR5のうち3つが水素原子である場合、他の1つは水素原子またはメチル基ではない;で示され、pHが、5.0以下である、研磨用組成物。本発明によれば、多結晶シリコンのみならず、シリコン窒化膜を高速で研磨し、かつ、酸化ケイ素膜の研磨速度を抑えることができる研磨用組成物が提供される。