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1. (WO2018131109) 三次元積層造形装置の電子ビームカラム、三次元積層造形装置、および三次元積層造形方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/131109 国際出願番号: PCT/JP2017/000770
国際公開日: 19.07.2018 国際出願日: 12.01.2017
IPC:
H01J 37/30 (2006.01) ,B22F 3/105 (2006.01) ,B22F 3/16 (2006.01) ,H01J 37/06 (2006.01) ,H01J 37/12 (2006.01) ,H01J 37/147 (2006.01) ,H01J 37/305 (2006.01) ,B33Y 10/00 (2015.01) ,B33Y 30/00 (2015.01)
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
30
物体の局所的な処理のための電子ビームまたはイオンビーム管
B 処理操作;運輸
22
鋳造;粉末冶金
F
金属質粉の加工;金属質粉からの物品の製造;金属質粉の製造;金属質粉に特に適する装置または機械
3
成形または焼結方法に特徴がある金属質粉からの工作物または物品の製造;特にそのために適した装置
10
焼結のみに特徴のあるもの
105
電流,レーザーまたはプラズマを利用することによるもの
B 処理操作;運輸
22
鋳造;粉末冶金
F
金属質粉の加工;金属質粉からの物品の製造;金属質粉の製造;金属質粉に特に適する装置または機械
3
成形または焼結方法に特徴がある金属質粉からの工作物または物品の製造;特にそのために適した装置
12
成形と焼結の両者を特徴とするもの
16
連続または反復する工程を含むもの
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02
細部
04
電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置
06
電子源;電子銃
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02
細部
04
電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置
10
レンズ
12
静電的なもの
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02
細部
04
電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置
147
希望する通路に沿って放電を直進しまたは偏向するための装置
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
30
物体の局所的な処理のための電子ビームまたはイオンビーム管
305
鋳造する,溶かす,脱水するまたはエッチングするためのもの
[IPC code unknown for B33Y 10][IPC code unknown for B33Y 30]
出願人: ADVANTEST CORPORATION[JP/JP]; 32-1, Asahi-cho 1-chome, Nerima-ku, Tokyo 1790071, JP
発明者: HAMAGUCHI Shinichi; JP
SUGATANI Shinji; JP
TAKAHASHI Masayuki; JP
TAKIZAWA Masahiro; JP
代理人: RYUKA IP LAW FIRM; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) ELECTRON BEAM COLUMN FOR THREE-DIMENSIONAL PRINTING DEVICE, THREE-DIMENSIONAL PRINTING DEVICE, AND THREE-DIMENSIONAL PRINTING METHOD
(FR) COLONNE DE FAISCEAUX D'ÉLECTRONS DE DISPOSITIF D'IMPRESSION TRIDIMENSIONNELLE, DISPOSITIF ET PROCÉDÉ D'IMPRESSION TRIDIMENSIONNELLE
(JA) 三次元積層造形装置の電子ビームカラム、三次元積層造形装置、および三次元積層造形方法
要約:
(EN) [Problem] To provide a three-dimensional printing device wherein a plurality of electron beams having different beam shapes simultaneously irradiate approximately the same range of the surface of a powder layer. [Solution] The electron beam column 200 of this three-dimensional printing device 100 is equipped with: a plurality of electron sources 20, each containing an electron source having an anisotropic beam generating unit; and beam shape transforming elements 30, each for transforming the beam shape, at a surface 63 of a powder layer 62, of an electron beam emitted from each of the electron sources 20. The electron beam column 200 is equipped with a deflector 50 with which electron beams emitted from each of the plurality of electron sources 20 are deflected by a distance larger than the beam spacing between the electron beams before passage through the deflector 50. In this manner, the three-dimensional printing device 100 equipped with the electron beam column 200 simultaneously irradiates approximately the same range of the surface 63 of the powder layer 62 with the plurality of electron beams having different beam shapes while forming a three dimensional structure 66 by the powder layer 62 being melted and solidifying.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir un dispositif d'impression tridimensionnelle selon lequel plusieurs faisceaux d'électrons ayant différentes formes de faisceau soumettent simultanément sensiblement la même étendue de la surface d'une couche de poudre à un rayonnement. La solution selon l'invention porte sur une colonne de faisceaux d'électrons 200 du présent dispositif d'impression tridimensionnelle 100, équipée : d'une pluralité de sources d'électrons 20, chacune contenant une source d'électrons comportant une unité de génération de faisceau anisotrope; et d'éléments de transformation 30 de forme de faisceau, chacun étant destiné à transformer la forme de faisceau, au niveau d'une surface 63 d'une couche de poudre 62, d'un faisceau d'électrons émis depuis chacune des sources d'électrons 20. La colonne de faisceaux d'électrons 200 est équipée d'un déflecteur 50 au moyen duquel des faisceaux d'électrons émis depuis chaque source de la pluralité de sources d'électrons 20 sont déviés d'une distance supérieure à l'espacement de faisceaux entre les faisceaux d'électrons avant le passage à travers le déflecteur 50. De cette manière, le dispositif d'impression tridimensionnelle 100 équipé de la colonne de faisceaux d'électrons 200 soumet simultanément sensiblement la même étendue de la surface 63 de la couche de poudre 62 aux plusieurs faisceaux d'électrons ayant des formes de faisceau différentes tout en formant une structure tridimensionnelle 66 par la fusion et la solidification de la couche de poudre 62.
(JA) 【課題】ビーム形状が異なる複数の電子ビームで、粉末層の表面の略同じ範囲を同時に照射する三次元積層造形装置を提供する。【解決手段】三次元積層造形装置(100)の電子ビームカラム(200)は、異方的なビーム発生部を有する電子源を含む複数の電子源(20)と、電子源(20)から出力された電子ビームの粉末層(62)の表面(63)におけるビーム形状を変形させるビーム形状変形素子(30)とを備える。電子ビームカラム(200)が備える偏向器(50)は、複数の電子源(20)のそれぞれから出力された電子ビームを、偏向器(50)を通過する前の電子ビームのビーム間隔より大きい距離で偏向する。これらにより、当該電子ビームカラム(200)を備える三次元積層造形装置(100)は、粉末層(62)の表面(63)の略同一の範囲をビーム形状が異なる複数の電子ビームで同時に照射しながら、粉末層(62)を溶融凝固させて三次元構造物(66)を形成する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)