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1. (WO2018128159) 薬液の品質検査方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/128159 国際出願番号: PCT/JP2017/047208
国際公開日: 12.07.2018 国際出願日: 28.12.2017
IPC:
G01N 33/00 (2006.01) ,G01N 21/31 (2006.01) ,G01N 24/08 (2006.01) ,G01N 27/62 (2006.01) ,G01N 30/72 (2006.01) ,G01N 30/86 (2006.01) ,G01N 30/88 (2006.01) ,G03F 7/26 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
出願人: FUJIFILM CORPORATION[JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者: KAMIMURA Tetsuya; JP
代理人: WATANABE Mochitoshi; JP
MIWA Haruko; JP
ITOH Hideaki; JP
MITSUHASHI Fumio; JP
優先権情報:
2017-00118106.01.2017JP
2017-25112127.12.2017JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR INSPECTING QUALITY OF CHEMICAL FLUID
(FR) PROCÉDÉ DE CONTRÔLE DE LA QUALITÉ D'UN FLUIDE CHIMIQUE
(JA) 薬液の品質検査方法
要約:
(EN) The purpose of the present invention is to provide a quality inspection method by which defect performance can be conveniently evaluated. The quality inspection method of the present invention is a method for inspecting the quality of a chemical fluid used in the production of a semiconductor substrate, and comprises, in following order: a step W for preparing a first container, and washing at least a portion of a fluid-contacting portion by using a portion of the chemical fluid; a step A for obtaining a c fluid by concentrating a portion of the chemical fluid by using the washed first container; a step B for measuring the content of a specific component in the c fluid; and a step C for comparing the content of the specific component with a predetermined reference value. At least the step W and the step A are performed in a clean room having a Class 4 purity or higher as defined by ISO14644-1:2015. Concentration is performed under at least one inert gas selected from the group consisting of Ar gas, He gas, and N2 gas, or is performed under reduced pressure. Measurement is performed by a predetermined measurement scheme.
(FR) Le but de la présente invention est de fournir un procédé de contrôle qualité permettant d'évaluer commodément une performance défectueuse. Le procédé de contrôle qualité de la présente invention est un procédé de contrôle de la qualité d'un fluide chimique utilisé dans la production d'un substrat semi-conducteur et qui comprend, dans l'ordre suivant : une étape W de préparation d'un premier récipient, puis de lavage d'au moins une partie d'une section en contact avec un fluide à l'aide d'une fraction du fluide chimique ; une étape A d'obtention d'un fluide c par concentration d'une fraction du fluide chimique à l'aide du premier récipient lavé ; une étape B de mesure du contenu en un composant spécifique du fluide c ; et une étape C de comparaison du contenu en composant spécifique avec une valeur de référence prédéterminée. Au moins l'étape W et l'étape A sont mises en œuvre dans une salle blanche présentant une pureté de classe 4 ou plus, telle que définie par la norme ISO14644-1:2015. La concentration est mise en œuvre sous au moins un gaz inerte choisi dans le groupe constitué du gaz Ar, du gaz He et du gaz N2, ou sous pression réduite. La mesure est effectuée conformément à un schéma de mesure prédéterminé.
(JA) 本発明は、簡便に欠陥性能を評価できる品質検査方法を提供することを課題とする。 本発明の品質検査方法は、半導体基板の製造に使用される薬液の品質検査方法であって、第1容器を準備するとともに、薬液の一部を用いて、接液部の少なくとも一部を洗浄する工程Wと、薬液の一部を洗浄後の第1容器を用いて濃縮してc液を得る工程Aと、c液中における特定成分の含有量を測定する工程Bと、特定成分の含有量をあらかじめ設定された基準値と比較する工程Cと、を、この順に有し、少なくとも工程W、及び、工程Aが、ISO14644-1:2015で定めるクラス4以上の清浄度を有するクリーンルーム内で実施され、濃縮が、Arガス、Heガス、及び、Nガスからなる群より選択される少なくとも1種の不活性ガス下で行われるか、又は、減圧下で行われ、測定が、所定の測定法により行われる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)