国際・国内特許データベース検索

1. (WO2018124109) 洗浄液組成物

Pub. No.:    WO/2018/124109    International Application No.:    PCT/JP2017/046737
Publication Date: Fri Jul 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Dec 27 00:59:59 CET 2017
IPC: H01L 21/304
C11D 7/32
C11D 7/36
C11D 17/08
C23G 1/20
Applicants: KANTO KAGAKU KABUSHIKI KAISHA
関東化學株式会社
Inventors: MORITA, Kikue
守田 菊恵
TAKANAKA, Areji
高中 亞鈴治
OHWADA, Takuo
大和田 拓央
Title: 洗浄液組成物
Abstract:
半導体素子などの電子デバイスの製造工程における、化学的機械研磨(CMP)処理などを施された基板などの洗浄において、有用な洗浄液組成物を提供する。 本発明の洗浄液組成物は、Cu配線を有する基板を洗浄するための洗浄液組成物であって、塩基性化合物を1種または2種以上と、カルボキシル基またはエステル基を1つ以上有する、ただしアミノ基を1つ以上有する場合は含窒素複素環に直接結合するアミノ基のみを有する、含窒素複素環式単環芳香族化合物を1種または2種以上とを含み、水素イオン濃度(pH)が8~12である、前記洗浄液組成物である。