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国際公開番号: WO/2018/123884 国際出願番号: PCT/JP2017/046173
国際公開日: 05.07.2018 国際出願日: 22.12.2017
IPC:
H01L 27/146 (2006.01) ,G02B 5/20 (2006.01) ,H04N 9/07 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
14
赤外線,可視光,短波長の電磁波または粒子線輻射に感応する半導体構成部品で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御するかのどちらかに特に適用されるもの
144
輻射線によって制御される装置
146
固体撮像装置構造
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
H 電気
04
電気通信技術
N
画像通信,例.テレビジョン
9
カラーテレビジョン方式の細部
04
画像信号発生装置
07
1つの撮像装置のみを有するもの
出願人: TOPPAN PRINTING CO.,LTD.[JP/JP]; 5-1, Taito 1-chome, Taito-ku, Tokyo 1100016, JP
発明者: IMOTO Tomohiro; JP
TAKAHASHI Satoshi; JP
代理人: HIROSE Hajime; JP
MIYASAKA Toru; JP
優先権情報:
2016-25355627.12.2016JP
2016-25365027.12.2016JP
発明の名称: (EN) SOLID-STATE IMAGING ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMICONDUCTEUR ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 固体撮像素子及びその製造方法
要約:
(EN) Provided is a highly-precise and highly-sensitive solid-state imaging element that causes a reduction in color mixing. This solid-state imaging element is provided with: a semiconductor substrate (10) on which a plurality of photoelectric conversion elements (11) are two-dimensionally arranged; a color filer layer (30) on which color filters of a plurality of colors are two-dimensionally arranged in a preset regular pattern; and a lower layer planarizing layer (12) that is arranged only between a color filter (14) of a first color and the semiconductor substrate (10). The following expressions are satisfied: 200 [nm]≤A≤ 700 [nm]; 0 [nm]≤B≤ 200 [nm]; and C≤A+B+200 [nm], where A [nm] represents the film thickness of the color filter (14) of the first color, B [nm] represents the film thickness of the lower layer planarizing layer (12), and C [nm] represents the film thicknesses of color films (15, 16) of colors other than the first color.
(FR) L'invention concerne un élément d'imagerie à semiconducteur hautement précis et hautement sensible qui provoque une réduction du mélange de couleurs. Cet élément d'imagerie à semiconducteur comprend : un substrat semiconducteur (10) sur lequel une pluralité d'éléments de conversion photoélectrique (11) sont agencés de manière bidimensionnelle; une couche de filtre de couleur (30) sur laquelle des filtres de couleur d'une pluralité de couleurs sont agencés de façon bidimensionnelle selon un motif régulier prédéfini; et une couche de planarisation de couche inférieure (12) qui est agencée uniquement entre un filtre de couleur (14) d'une première couleur et le substrat semiconducteur (10). Les expressions suivantes sont satisfaites : 200 [nm]≤A≤ 700 [nm]; 0 [nm]≤B≤ 200 [nm]; et C≤A+B+200 [nm], où A [nm] représente l'épaisseur de film du filtre de couleur (14) de la première couleur, B [nm] représente l'épaisseur de film de la couche de planarisation de couche inférieure (12), et C [nm] représente les épaisseurs de film de films de couleur (15, 16) de couleurs autres que la première couleur.
(JA) 混色を低減した高精細で感度の良い固体撮像素子を提供する。固体撮像素子は、複数の光電変換素子(11)を二次元的に配置した半導体基板(10)と、光電変換素子(11)に対応させて複数色の色フィルターを予め設定した規則パターンで二次元的に配置した色フィルター層(30)と、第1の色の色フィルター(14)と半導体基板(10)との間のみに配置された下層平坦化層(12)と、を備える。第1の色の色フィルター(14)の膜厚をA[nm]、上記下層平坦化層(12)の膜厚をB[nm]、第1の色以外の色の色フィルター(15、16)の膜厚をC[nm]とした場合に、下記式を満足する。 200[nm]≦A≦700[nm] 0[nm]≦B≦200[nm] C≦A+B+200[nm]
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)