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1. (WO2018123804) ダイシングフィルム基材およびダイシングフィルム
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/123804 国際出願番号: PCT/JP2017/045918
国際公開日: 05.07.2018 国際出願日: 21.12.2017
IPC:
H01L 21/301 (2006.01) ,B32B 27/32 (2006.01) ,C09J 7/20 (2018.01)
出願人: DUPONT-MITSUI POLYCHEMICALS CO., LTD.[JP/JP]; 5-2, Higashi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1057122, JP
発明者: NAKANO, Shigenori; --
SAKUMA, Masami; --
FUKUYAMA, Kana; --
代理人: WASHIDA, Kimihito; JP
優先権情報:
2016-25324427.12.2016JP
発明の名称: (EN) DICING FILM BASE AND DICING FILM
(FR) BASE DE FILM DE DÉCOUPAGE EN DÉS ET FILM DE DÉCOUPAGE EN DÉS
(JA) ダイシングフィルム基材およびダイシングフィルム
要約: front page image
(EN) Provided is a dicing film base having excellent heat resistance and an excellent balance between chip cutting properties and extendibility. A dicing film base comprising: a first resin layer which is made from a resin composition containing 30 to 95 parts by mass inclusive of at least one resin (A) selected from the group consisting of an ethylene-unsaturated carboxylic acid copolymer and an ionomer of the ethylene-unsaturated carboxylic acid copolymer, 5 parts by mass or more and less than 40 parts by mass of at least one resin (B) selected from the group consisting of a polyamide and a polyurethane, and 0 to 30 parts by mass inclusive of an antistatic agent (C) other than the polyamide (wherein the total amount of the resin (A), the resin (B) and the antistatic agent (C) is 100 parts by mass); and a second resin layer which contains at least one resin (D) selected from the group consisting of an ethylene-unsaturated carboxylic acid copolymer and an ionomer of the ethylene-unsaturated carboxylic acid copolymer.
(FR) L'invention concerne une base de film de découpage ayant une excellente résistance à la chaleur et un excellent équilibre entre les propriétés de coupe de copeaux et d'extensibilité. Une base de film de découpage comprend : une première couche de résine qui est fabriquée à partir d'une composition de résine contenant 30 à 95 parties en masse comprenant au moins une résine (A) sélectionnée dans le groupe constitué par un copolymère d'acide carboxylique à insaturation éthylénique et un ionomère du copolymère d'acide carboxylique à insaturation éthylénique, 5 parties en masse ou plus et moins de 40 parties en masse d'au moins une résine (B) sélectionnée dans le groupe constitué par un polyamide et un polyuréthane, et 0 à 30 parties en masse comprenant un agent antistatique (C) autre que le polyamide (la quantité totale de la résine (A), de la résine (B) et de l'agent antistatique (C) étant de 100 parties en masse); et une seconde couche de résine qui contient au moins une résine (D) sélectionnée dans le groupe constitué par un copolymère d'acide carboxylique à insaturation éthylénique et un ionomère du copolymère d'acide carboxylique à insaturation éthylénique.
(JA) 耐熱性に優れ、チップ分断性と拡張性とのバランスに優れたダイシングフィルム基材を提供する。エチレン・不飽和カルボン酸系共重合体及び前記エチレン・不飽和カルボン酸系共重合体のアイオノマーからなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂(A)30質量部以上95質量部以下と、ポリアミド及びポリウレタンからなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂(B)5質量部以上40質量部未満と、前記ポリアミド以外の帯電防止剤(C)0質量部以上30質量部以下(ただし、樹脂(A)、樹脂(B)および帯電防止剤(C)の合計を100質量部とする)を含有する樹脂組成物からなる第1樹脂層と、エチレン・不飽和カルボン酸系共重合体および前記エチレン・不飽和カルボン酸系共重合体のアイオノマーからなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂(D)を含む第2樹脂層とを含む、ダイシングフィルム基材。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)