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1. (WO2018123549) ガスフロースパッタリング装置、ガスフロースパッタ用ターゲット及びスパッタリングターゲット原料の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/123549 国際出願番号: PCT/JP2017/044447
国際公開日: 05.07.2018 国際出願日: 11.12.2017
IPC:
C23C 14/34 (2006.01) ,G11B 5/851 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
34
スパッタリング
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84
記録担体の製造に特に適合する方法または装置
851
スパッタリングにより磁性層を支持体に形成するもの
出願人:
JX金属株式会社 JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区大手町一丁目1番2号 1-2,Otemachi 1-chome,Chiyoda-ku, Tokyo 1008164, JP
発明者:
小庄 孝志 KOSHO,Takashi; JP
高見 英生 TAKAMI,Hideo; JP
中村 祐一郎 NAKAMURA,Yuichiro; JP
武智 幹雄 TAKECHI,Mikio; JP
三上 智広 MIKAMI,Tomohiro; JP
代理人:
アクシス国際特許業務法人 AXIS PATENT INTERNATIONAL; 東京都港区新橋二丁目6番2号 新橋アイマークビル Shimbashi i-mark Bldg., 6-2 Shimbashi 2-Chome, Minato-ku, Tokyo 1050004, JP
優先権情報:
2016-25665528.12.2016JP
発明の名称: (EN) GAS FLOW SPUTTERING DEVICE, GAS FLOW SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET STARTING MATERIAL
(FR) DISPOSITIF DE PULVÉRISATION DE FLUX DE GAZ, CIBLE DE PULVÉRISATION DE FLUX DE GAZ ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MATÉRIAU DE DÉPART DE CIBLE DE PULVÉRISATION
(JA) ガスフロースパッタリング装置、ガスフロースパッタ用ターゲット及びスパッタリングターゲット原料の製造方法
要約:
(EN) Provided is a gas flow sputtering device suited to the long-term and stable production of a sputtering target starting material at a high sputtering rate. This gas flow sputtering device is equipped with: a sputtering chamber, the interior of which can be made into a vacuum; a pair of plate-shaped targets positioned in a manner such that the sputtering surfaces face one another with an interval interposed therebetween inside the sputtering chamber; one or more gas discharge ports for supplying a sputtering gas between the pair of plate-shaped targets; an exhaust port for discharging the sputtering gas as exhaust; a member on which sputtering particles are deposited and which is positioned so as to face the gas discharge ports in a configuration where the space between the plate-shaped targets is sandwiched between said member and the gas discharge ports, which are positioned opposite said member; and an interval adjustment mechanism capable of adjusting the interval between the pair of plate-shaped targets.
(FR) L'invention concerne un dispositif de pulvérisation de flux de gaz approprié pour la production à long terme et stable d'un matériau de départ de cible de pulvérisation à une vitesse de pulvérisation élevée. Ledit dispositif de pulvérisation de flux de gaz est équipé : d'une chambre de pulvérisation, dont l'intérieur peut être transformé en un vide ; d'une paire de cibles en forme de plaque positionnées de telle sorte que des surfaces de pulvérisation se font face avec un intervalle interposé entre celles-ci à l'intérieur de la chambre de pulvérisation ; d'un ou de plusieurs orifices d'évacuation de gaz pour fournir un gaz de pulvérisation entre la paire de cibles en forme de plaque ; d'un orifice d'échappement pour évacuer le gaz de pulvérisation en tant qu'échappement ; d'un élément sur lequel des particules de pulvérisation sont déposées et qui est positionné de façon à faire face aux orifices d'évacuation de gaz dans une configuration où l'espace entre les cibles en forme de plaque est intercalé entre ledit élément et les orifices d'évacuation de gaz, qui sont positionnés à l'opposé dudit élément ; et d'un mécanisme de réglage d'intervalle capable de régler l'intervalle entre la paire de cibles en forme de plaque.
(JA) スパッタリングターゲット原料を長時間安定して高スパッタレートで製造するのに適したガスフロースパッタリング装置を提供する。内部を真空にすることが可能なスパッタリングチャンバーと、前記スパッタリングチャンバー内に間隔を置いて互いのスパッタ面が対向するように配置された一対の平板ターゲットと、前記一対の平板ターゲットの間にスパッタガスを供給するための一つ又は二つ以上のガス吐出口と、スパッタガスを排気するための排気口と、一対の平板ターゲット間の空間部を挟んでガス吐出口とは反対側に、ガス吐出口に向き合うように配置されたスパッタ粒子を堆積させる部材と、前記一対の平板ターゲットの間隔調整を可能とする間隔調整機構と、を備えたガスフロースパッタリング装置。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)