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1. (WO2018123462) パターンの製造方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法および画像表示装置の製造方法
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国際公開番号: WO/2018/123462 国際出願番号: PCT/JP2017/043592
国際公開日: 05.07.2018 国際出願日: 05.12.2017
IPC:
G03F 7/004 (2006.01) ,G02B 5/20 (2006.01) ,G02F 1/1335 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1335
セルと光学部材,例.偏光子,反射鏡,の構造的組合せ
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
吉林 光司 YOSHIBAYASHI Mitsuji; JP
代理人:
中島 順子 NAKASHIMA Junko; JP
米倉 潤造 YONEKURA Junzo; JP
村上 泰規 MURAKAMI Yasunori; JP
優先権情報:
2016-25499828.12.2016JP
2017-19827312.10.2017JP
発明の名称: (EN) PATTERN MANUFACTURING METHOD, COLOR FILTER MANUFACTURING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING SOLD STATE IMAGING ELEMENT, AND METHOD OF MANUFACTURING IMAGE DISPLAY DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILTRE COLORÉ, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGE
(JA) パターンの製造方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法および画像表示装置の製造方法
要約:
(EN) Provided are a pattern manufacturing method having a wide process window, a color filter manufacturing method, a method of manufacturing a solid-state imaging element, and a method of manufacturing an image display device. The pattern manufacturing method includes the steps of: utilizing a negative photosensitive composition and forming a negative photosensitive composition layer on a support medium; exposing the negative photosensitive composition layer via a mask having a pattern; and developing the negative photosensitive composition layer after removing an unexposed portion thereof. The optical density of the mask to light of a wavelength used for exposure is 3.6 or greater.
(FR) La présente invention concerne un procédé de fabrication de motif ayant une fenêtre de traitement large, un procédé de fabrication de filtre coloré, un procédé de fabrication d'un élément d'imagerie à semi-conducteurs, et un procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage d'image. Le procédé de fabrication de motif comprend les étapes consistant à : utiliser une composition photosensible négative et former une couche de composition photosensible négative sur un milieu de support; exposer la couche de composition photosensible négative par l'intermédiaire d'un masque ayant un motif; et développer la couche de composition photosensible négative après élimination d'une partie non exposée de celle-ci. La densité optique du masque à la lumière d'une longueur d'onde utilisée pour une exposition est supérieure ou égale à 3,6.
(JA) プロセスウインドウの広いパターンの製造方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法および画像表示装置の製造方法を提供する。パターン製造方法は、支持体上にネガ型感光性組成物を適用してネガ型感光性組成物層を形成する工程と、ネガ型感光性組成物層に対してパターンを有するマスクを介して露光する工程と、未露光部のネガ型感光性組成物層を除去して現像する工程と、を含み、マスクは、露光に用いる波長の光に対する光学濃度が3.6以上である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)