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1. (WO2018123388) 感放射線性組成物、パターン形成方法並びに金属含有樹脂及びその製造方法
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国際公開番号: WO/2018/123388 国際出願番号: PCT/JP2017/042469
国際公開日: 05.07.2018 国際出願日: 27.11.2017
IPC:
G03F 7/038 (2006.01) ,C08F 12/14 (2006.01) ,C08G 79/12 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 7/32 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
12
ただ1つの炭素-炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,その少なくとも1つが芳香族炭素環によって停止されている化合物の単独重合体または共重合体
02
1個の不飽和脂肪族基を含有する単量体
04
1個の環を含有するもの
14
異種原子または異種原子含有基で置換されたもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
79
高分子の主鎖に,けい素,いおう,窒素,酸素または炭素を有しまたは有せずに,けい素,いおう,窒素,酸素および炭素以外の原子を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
12
すず含む連結基
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
30
液体手段を用いる画像様除去
32
そのための液体組成物,例.現像剤
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
出願人:
JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目9番2号 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
発明者:
浅野 裕介 ASANO Yusuke; JP
中川 恭志 NAKAGAWA Hisashi; JP
峯岸 信也 MINEGISHI Shinya; JP
代理人:
天野 一規 AMANO Kazunori; JP
優先権情報:
2016-25689828.12.2016JP
発明の名称: (EN) RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, AND METAL-CONTAINING RESIN AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) COMPOSITION SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS, RÉSINE CONTENANT DU MÉTAL ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
(JA) 感放射線性組成物、パターン形成方法並びに金属含有樹脂及びその製造方法
要約:
(EN) The present invention is a radiation-sensitive composition used for extreme UV light or radiation beam exposure, the radiation-sensitive composition containing a first polymer and a solvent, wherein the radiation-sensitive composition is characterized in that: the first polymer has a first structural unit including one or more metal atoms and a carbon atom that is chemically bonded to the metal atom and that does not constitute an unsaturated bond; and at least one of the chemical bonds is a covalent bond. Preferably, all of the chemical bonds are covalent bonds. The metal atom is preferably tin, germanium, lead, or a combination thereof.
(FR) La présente invention concerne une composition sensible au rayonnement utilisée pour une exposition à un rayonnement ultraviolet extrême ou à un faisceau de rayonnement, la composition sensible au rayonnement contenant un premier polymère et un solvant, la composition sensible au rayonnement étant caractérisée en ce que : le premier polymère a une première unité structurale comprenant un ou plusieurs atomes métalliques et un atome de carbone qui est lié chimiquement à l'atome métallique et qui ne constitue pas une liaison insaturée; et au moins une des liaisons chimiques est une liaison covalente. De préférence, toutes les liaisons chimiques sont des liaisons covalentes. L'atome métallique est de préférence l'étain, le germanium, le plomb ou une combinaison de ceux-ci.
(JA) 本発明は、極端紫外線又は電子線露光に用いられ、第1重合体と溶媒とを含有する感放射線性組成物であって、上記第1重合体が、1又は複数の金属原子と、この金属原子に化学結合により結合している炭素原子であって不飽和結合を構成していない炭素原子とを含む第1構造単位を有し、上記化学結合のうちの少なくとも1つが共有結合であることを特徴とする。上記化学結合の全てが共有結合であることが好ましい。上記金属原子は、スズ、ゲルマニウム、鉛又はこれらの組み合わせであることが好ましい。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)