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1. (WO2018123183) シリコンターゲット材
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国際公開番号: WO/2018/123183 国際出願番号: PCT/JP2017/035924
国際公開日: 05.07.2018 国際出願日: 03.10.2017
IPC:
C23C 14/34 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
34
スパッタリング
出願人:
三菱マテリアル電子化成株式会社 MITSUBISHI MATERIALS ELECTRONIC CHEMICALS CO., LTD. [JP/JP]; 秋田県秋田市茨島三丁目1番6号 1-6, Barajima 3-chome, Akita-shi, Akita 0108585, JP
大同特殊鋼株式会社 DAIDO STEEL CO., LTD. [JP/JP]; 愛知県名古屋市東区東桜一丁目1番10号 1-10, Higashisakura 1-chome, Higashi-ku, Nagoya-shi, Aichi 4618581, JP
発明者:
金井 昌弘 KANAI, Masahiro; JP
続橋 浩司 TSUZUKIHASHI, Koji; JP
小西 希 KONISHI, Nozomi; JP
萩原 正弘 HAGIWARA, Masahiro; JP
勝見 昌高 KATSUMI, Masataka; JP
小林 和人 KOBAYASHI, Kazuhito; JP
代理人:
須田 正義 SUDA, Masayoshi; JP
優先権情報:
2016-25055526.12.2016JP
発明の名称: (EN) SILICON TARGET MATERIAL
(FR) MATÉRIAU CIBLE DE SILICIUM
(JA) シリコンターゲット材
要約:
(EN) In the present invention, on the surface of a rectangular plate-shaped target material (10), a groove section (13) that extends in the longitudinal direction is formed in the width-direction center of the target material (10) as a virtual region that is designed not to be spattered. If the width (W1) of the surface of the target material (10) is 100%, the width (W2) of the groove section (13) is 20–40%. Moreover, curved surfaces are formed in corner sections (14) of the groove section (13), and it is preferable that the radius of curvature at the mouth edge of the corner sections (14) be at least 1.0 mm.
(FR) Dans la présente invention, sur la surface d'un matériau cible en forme de plaque rectangulaire (10), une section rainure (13) qui s'étend dans le sens longitudinal est formée au centre du matériau cible (10) dans le sens de la largeur à titre de région virtuelle qui n'est pas destinée à être soumise à pulvérisation. Si la largeur (W1) de la surface du matériau cible (10) est de 100 %, la largeur (W2) de la section rainure (13) est de 20 à 40 %. De plus, des surfaces incurvées sont formées dans les sections cornières (14) de la section rainure (13), et de préférence, le rayon de courbure en bord d'ouverture desdites sections cornières (14) est d'au moins 1,0 mm.
(JA) 長方形板状のターゲット材(10)の表面には、設計上スパッタリングされない仮想領域として、ターゲット材(10)の幅方向の中央に長手方向に延びる溝部(13)が形成される。溝部(13)の幅(W2)は、ターゲット材(10)表面の幅(W1)を100%とするとき20~40%である。また、溝部(13)のコーナ部(14)は湾曲面に形成され、このコーナ部(14)の口元の曲率半径は1.0mm以上であることが好ましい。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)