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1. (WO2018123166) SiN層およびSi層を有する基板用ウェットエッチング組成物およびこれを用いたウェットエッチング方法
国内段階移行に関する情報(詳細)
官庁移行日国内番号国内ステータス
日本 12.01.20182018501381
イスラエル 08.07.2018260481
アメリカ合衆国 09.07.201816068811Published: 07.02.2019
欧州特許庁(EPO) 12.07.20182017887878Published: 17.10.2018
大韓民国 13.07.20181020187020056Published: 01.08.2018