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1. (WO2018122995) 薄膜キャパシタ、および半導体装置

Pub. No.:    WO/2018/122995    International Application No.:    PCT/JP2016/089021
Publication Date: Fri Jul 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Dec 29 00:59:59 CET 2016
IPC: H01L 21/822
H01L 27/04
Applicants: NODA SCREEN CO., LTD.
株式会社野田スクリーン
Inventors: YOSHIZAWA Masamitsu
吉澤 正充
HATTORI Atsunori
服部 篤典
HATANO Hirotaka
波多野 弘孝
KUSUMOTO Kazuki
楠本 和貴
Title: 薄膜キャパシタ、および半導体装置
Abstract:
半導体チップ(50)を含む半導体装置(100)の再配線層(10)に配置される薄膜キャパシタ(20)であって、薄膜キャパシタ(20)は、第1電極(21A)、第1電極上に形成された誘電体(21B)、および誘電体上に形成された第2電極(21C)からなるキャパシタ本体部(21)と、第1電極(21A)の下面に設けられ、当該薄膜キャパシタ(20)を半導体チップ(50)の保護膜(52)上に貼りつける際に使用される接着部(22)と、を備える。キャパシタ本体部(21)と接着部(22)との厚みの総計が20μm以下である。