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1. (WO2018117167) 感光性化合物、該感光性化合物を含有する光酸発生剤及びレジスト組成物、並びに、該レジスト組成物を用いたデバイスの製造方法
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国際公開番号: WO/2018/117167 国際出願番号: PCT/JP2017/045771
国際公開日: 28.06.2018 国際出願日: 20.12.2017
IPC:
C07C 395/00 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
C 化学;冶金
07
有機化学
C
非環式化合物または炭素環式化合物
395
テルルを含有する化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
東洋合成工業株式会社 TOYO GOSEI CO., LTD. [JP/JP]; 千葉県市川市上妙典1603番地 1603 Kamimyoden, Ichikawa-shi, Chiba 2720012, JP
発明者:
内藤 倫哉 NAITO, Michiya; JP
早川 正道 HAYAKAWA, Masamichi; null
内海 義之 UTSUMI, Yoshiyuki; JP
代理人:
SK特許業務法人 SK INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; 東京都渋谷区広尾3-12-40 広尾ビル4階 Hiroo-Building 4th Floor, 3-12-40, Hiroo, Shibuya-ku, Tokyo 1500012, JP
奥野 彰彦 OKUNO Akihiko; JP
伊藤 寛之 ITO Hiroyuki; JP
優先権情報:
2016-24810921.12.2016JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOACID GENERATOR AND RESIST COMPOSITION CONTAINING SAID PHOTOSENSITIVE COMPOUND, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE USING SAID RESIST COMPOSITION
(FR) COMPOSÉ PHOTOSENSIBLE, GÉNÉRATEUR DE PHOTOACIDE, COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE CONTENANT LEDIT COMPOSÉ PHOTOSENSIBLE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF UTILISANT LADITE COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性化合物、該感光性化合物を含有する光酸発生剤及びレジスト組成物、並びに、該レジスト組成物を用いたデバイスの製造方法
要約:
(EN) Provided are a photosensitive compound, a photoacid generator, a resist composition using the same, and a method for manufacturing a device, wherein the photosensitive compound has good sensitivity to short-wavelength light such as KrF, particularly to extreme ultraviolet radiation (EUV) or electron beams (EB), enables excellent resolution and depth of focus in lithography, and can be suitably used for a resist composition capable of reducing line edge roughness (LER) in a fine pattern. The photosensitive compound contains divalent Te atoms.
(FR) L'invention concerne un composé photosensible, un générateur de photoacide, une composition de résine photosensible l'utilisant, et un procédé de fabrication d'un dispositif, le composé photosensible ayant une bonne sensibilité à la lumière à petites longueurs d'ondes telle que KrF, en particulier à un rayonnement ultraviolet extrême (EUV) ou à des faisceaux d'électrons (EB), permet une excellente résolution et une bonne profondeur de focalisation en lithographie, et peut ainsi être utilisé de manière appropriée pour une composition de résine photosensible capable de réduire la rugosité de bord de ligne (LER) dans un motif fin. Le composé photosensible contient des atomes de Te divalents.
(JA) KrF等の波長の短い光、特に極端紫外線(EUV)又は電子線(EB)に対して感度がよく、リソグラフィにおける解像性及び焦点深度に優れ、且つ、微細パターンにおけるLER(ラインエッジラフネス)を低減できるレジスト組成物に好適に用いられる感光性化合物、光酸発生剤、これを用いたレジスト組成物及びデバイスの製造方法を提供する。 2価のTe原子を含有する感光性化合物とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)