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1. (WO2018117020) 塗布制御装置、塗布制御方法、プログラムおよび記録媒体

Pub. No.:    WO/2018/117020    International Application No.:    PCT/JP2017/045299
Publication Date: Fri Jun 29 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Tue Dec 19 00:59:59 CET 2017
IPC: A45D 44/00
Applicants: SHISEIDO COMPANY, LTD.
株式会社資生堂
Inventors: KATSUYAMA Tomoyuki
勝山 智祐
Title: 塗布制御装置、塗布制御方法、プログラムおよび記録媒体
Abstract:
本発明の一実施形態に係る塗布制御装置は、肌の画像データを取得する取得部と、画像データを200μm以下の複数のセグメントに分割する分割部と、画像データの単一または複数のセグメントの値から、肌の各部分に塗布する化粧料の塗布量を算出する算出部と、を備える。