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1. (WO2018116916) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、光酸発生剤

Pub. No.:    WO/2018/116916    International Application No.:    PCT/JP2017/044599
Publication Date: Fri Jun 29 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Dec 13 00:59:59 CET 2017
IPC: G03F 7/004
C08F 220/26
C09K 3/00
G03F 7/038
G03F 7/039
G03F 7/20
C07C 309/12
C07C 309/17
C07C 309/19
C07C 381/12
Applicants: FUJIFILM CORPORATION
富士フイルム株式会社
Inventors: ASAKAWA Daisuke
浅川 大輔
GOTO Akiyoshi
後藤 研由
KOJIMA Masafumi
小島 雅史
KATO Keita
加藤 啓太
OU Keiyu
王 惠瑜
SAKITA Kyouhei
崎田 享平
Title: 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、光酸発生剤
Abstract:
(A)活性光線又は放射線の照射によりpKaが-1.40以上の酸を発生する光酸発生剤、及び、(B)酸分解性基を有する繰り返し単位を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、上記酸分解性基を有する繰り返し単位のEth感度が5.64以下である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物により、特に、超微細のパターンの形成において、ラフネス性能と露光ラチチュードとフォーカス余裕度とを非常に優れたものとできる、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、光酸発生剤、並びに、これらを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法を提供する。