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1. (WO2018116915) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法

Pub. No.:    WO/2018/116915    International Application No.:    PCT/JP2017/044597
Publication Date: Fri Jun 29 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Dec 13 00:59:59 CET 2017
IPC: G03F 7/038
G03F 7/004
G03F 7/039
G03F 7/20
Applicants: FUJIFILM CORPORATION
富士フイルム株式会社
Inventors: KATO Keita
加藤 啓太
SAKITA Kyouhei
崎田 享平
ASAKAWA Daisuke
浅川 大輔
GOTO Akiyoshi
後藤 研由
KOJIMA Masafumi
小島 雅史
Title: 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法
Abstract:
露光ラチチュードをELとし、空中像強度対数勾配をNILSとした場合に、特定の式で表わされる関係を満たす感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、特に、超微細のパターン(例えば、孔径45nm以下のコンタクトホールパターンや、線幅45nm以下のラインアンドスペースパターン)の形成において、ラフネス性能と露光ラチチュードとフォーカス余裕度とを非常に優れたものとできる、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法を提供する。