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1. (WO2018116890) 研磨用組成物

Pub. No.:    WO/2018/116890    International Application No.:    PCT/JP2017/044431
Publication Date: Fri Jun 29 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Tue Dec 12 00:59:59 CET 2017
IPC: C09K 3/14
B24B 37/00
C09G 1/02
H01L 21/304
Applicants: NITTA HAAS INCORPORATED
ニッタ・ハース株式会社
Inventors: EZAWA, Shunji
江澤 俊二
DAITO, Takeshi
大藤 健
Title: 研磨用組成物
Abstract:
高い研磨速度を得ることができる研磨用組成物を提供する。研磨用組成物は、シリカ砥粒と、pH調整剤と、水とを含む。シリカ砥粒と水との親和性AVは0.51以上であり、親和性AVは次の式(1)で表される。 AV=Rsp/TSA (1) 式(1)中、Rspは次の式(2)で表され、TSAはシリカ砥粒の総表面積である。 Rsp=(Rav/Rb)-1 (2) 式(2)中、Ravはシリカ砥粒を分散させた状態で観測されるNMR緩和時間の逆数である。Rbはシリカ砥粒を分散させていない状態で観測されるNMR緩和時間の逆数である。