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1. (WO2018110430) 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
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国際公開番号: WO/2018/110430 国際出願番号: PCT/JP2017/044031
国際公開日: 21.06.2018 国際出願日: 07.12.2017
IPC:
C08F 220/02 (2006.01) ,C08F 212/14 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
212
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,その少なくとも1つが芳香族炭素環によって停止されている化合物の共重合体
02
1個の不飽和脂肪族基をもつ単量体
04
1個の環を含有するもの
14
異種原子または異種原子含有基で置換されたもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
出願人:
住友化学株式会社 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 東京都中央区新川二丁目27番1号 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260, JP
発明者:
増山 達郎 MASUYAMA, Tatsuro; JP
山口 訓史 YAMAGUCHI, Satoshi; JP
市川 幸司 ICHIKAWA, Koji; JP
代理人:
中山 亨 NAKAYAMA, Tohru; JP
坂元 徹 SAKAMOTO, Toru; JP
優先権情報:
2016-24265514.12.2016JP
発明の名称: (EN) RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
(FR) RÉSINE, COMPOSITION DE RÉSERVE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MOTIF DE RÉSERVE
(JA) 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
要約:
(EN) Provided is a resin that contains structural units derived from a compound represented by formula (I) and structural units having an acid-labile group. (In the formula, R1 denotes an optionally substituted hydrocarbon group. R2 denotes an alkyl group that may have a halogen atom, a hydrogen atom or a halogen atom. Ar denotes an optionally substituted aromatic hydrocarbon group. L1 denotes a group represented by formula (L1-1) or the like. L11, L13, L15 and L17 each independently denote an alkane diyl group. L12, L14, L16 and L18 each independently denote -O-, -CO-, -CO-O-, or the like. * and ** denote bonds, and ** denotes a bond to an iodine atom.)
(FR) L’invention concerne une résine qui contient une unité structurale dérivée d’un composé représenté par la formule (I), et une unité structurale possédant un groupe labile acide. [Dans la formule, R représente un groupe hydrocarbure ayant facultativement un substituant. R représentent, chacun indépendamment, un atome d’hydrogène, un atome d’halogène, ou un groupe alkyle ayant facultativement un atome d'halogène. Ar représente un groupe hydrocarbure ayant facultativement un substituant. L représente un groupe représenté par la formule (L-1), ou similaire. L11, L13, L15 et L17 représentent, chacun indépendamment, un groupe alcanediyle. L12, L14, L16 et L18 représentent, chacun indépendamment, -O-, -CO-, -CO-O-, ou similaire. * et ** représentent une liaison atomique, et **représente une liaison atomique avec un atome d’iode.]
(JA) 式(I)で表される化合物に由来する構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂。 [式中、Rは、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。Rは、それぞれ独立に、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Arは、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基を表す。Lは、式(L-1)等で表される基を表す。L11、L13、L15及びL17は、それぞれ独立して、アルカンジイル基を表す。L12、L14、L16及びL18は、それぞれ独立して、-O-、-CO-、-CO-O-等を表す。*、**は結合手であり、**はヨウ素原子との結合手を表す。)]
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)