このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018110399) 光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/110399 国際出願番号: PCT/JP2017/043929
国際公開日: 21.06.2018 国際出願日: 07.12.2017
IPC:
G03F 7/004 (2006.01) ,C09K 3/00 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,C07D 221/14 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
K
他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用
3
物質であって,他に分類されないもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
C 化学;冶金
07
有機化学
D
複素環式化合物(高分子化合物C08)
221
異項原子として1個の窒素原子のみを有する6員環の複素環式化合物であって,グループ211/00から219/00までに属さないもの
02
炭素環または環系と縮合しているもの
04
オルソ―またはペリ―縮合環系
06
3個の環からなる環系
14
アザ―フェナレン,例.1,8―ナフタルイミド
出願人:
サンアプロ株式会社 SAN-APRO LTD. [JP/JP]; 京都府京都市東山区一橋野本町11番地 11, Ikkyo Nomoto-cho, Higashiyama-ku, Kyoto-shi Kyoto 6050995, JP
発明者:
中村 友治 NAKAMURA Yuji; JP
柴垣 智幸 SHIBAGAKI Tomoyuki; JP
代理人:
林 博史 HAYASHI Hiroshi; JP
優先権情報:
2016-24016512.12.2016JP
発明の名称: (EN) PHOTOACID GENERATOR AND RESIN COMPOSITION FOR PHOTOLITHOGRAPHY
(FR) GÉNÉRATEUR DE PHOTOACIDE ET COMPOSITION DE RÉSINE POUR UNE PHOTOLITHOGRAPHIE
(JA) 光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物
要約:
(EN) The objective of the present invention is to provide a non-ionic photoacid generator having high photosensitivity to an i-line, and excellent heat-resistance stability, solubility in hydrophobic materials, and alkali developability. The present invention is a non-ionic photoacid generator (A) characterized by being represented by formula (1). [In formula (1), X is a monovalent organic group that is desorbed by the action of an acid and can be substituted by a hydrogen atom, and Rf is a C1-18 hydrocarbon group (all or part of the hydrogen may be replaced by fluorine).]
(FR) La présente invention a pour objet de fournir un générateur de photoacide non ionique présentant une photosensibilité élevée à une ligne i ainsi qu'une excellente stabilité de résistance à la chaleur, une excellente solubilité dans des matériaux hydrophobes et une aptitude au développement alcalin. La présente invention porte sur un générateur de photoacide non ionique (A) caractérisé en ce qu'il est représenté par la formule (1). [Dans la formule (1), X est un groupe organique monovalent qui est désorbé par l'action d'un acide et peut être substitué par un atome d'hydrogène et Rf est un groupe hydrocarboné en C1-C18 (la totalité ou une partie de l'hydrogène peut être remplacée par du fluor)].
(JA) i線に高い光感度を有し、耐熱安定性に優れ、疎水性材料のへの溶解性及びアルカリ現像性に優れる非イオン系光酸発生剤を提供することを目的とする。本発明は、下記一般式(1)で表されることを特徴とする非イオン系光酸発生剤(A)である。 [式(1)中、Xは酸の作用により脱離して水素原子に置換されうる1価の有機基であり、Rfは炭素数1~18の炭化水素基(水素の一部又は全部がフッ素で置換されていてよい)を表す。]
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)