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1. (WO2018110198) 透明導電膜の形成方法及び電解メッキ用メッキ液
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国際公開番号: WO/2018/110198 国際出願番号: PCT/JP2017/041365
国際公開日: 21.06.2018 国際出願日: 16.11.2017
IPC:
C25D 3/38 (2006.01) ,C25D 5/02 (2006.01) ,C25D 7/00 (2006.01) ,H05K 3/18 (2006.01) ,H05K 3/24 (2006.01)
C 化学;冶金
25
電気分解または電気泳動方法;そのための装置
D
電気分解または電気泳動による被覆方法;電鋳;電気分解による加工品の接合;そのための装置
3
電気鍍金;そのための鍍金浴
02
溶液から
38
C 化学;冶金
25
電気分解または電気泳動方法;そのための装置
D
電気分解または電気泳動による被覆方法;電鋳;電気分解による加工品の接合;そのための装置
5
方法に特徴のある電気鍍金;加工品の前処理または後処理
02
選択された表面部分の電気鍍金
C 化学;冶金
25
電気分解または電気泳動方法;そのための装置
D
電気分解または電気泳動による被覆方法;電鋳;電気分解による加工品の接合;そのための装置
7
被覆される物品に特徴のある電気鍍金
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
3
印刷回路を製造するための装置または方法
10
導電性物質が希望する導電模様を形成するように絶縁支持部材に施されるもの
18
導電性物質を付着するのに沈でん技術を用いるもの
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
3
印刷回路を製造するための装置または方法
22
印刷回路の2次的処理
24
導電模様の補強
出願人:
コニカミノルタ株式会社 KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目7番2号 2-7-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015, JP
発明者:
星野 秀樹 HOSHINO Hideki; JP
大屋 秀信 OHYA Hidenobu; JP
山内 正好 YAMAUCHI Masayoshi; JP
小俣 猛憲 OMATA Takenori; JP
新妻 直人 NIIZUMA Naoto; JP
代理人:
丸山 英一 MARUYAMA Eiichi; JP
優先権情報:
2016-24439016.12.2016JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR FORMING TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE FILM, AND PLATING LIQUID FOR ELECTROPLATING
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN FILM ÉLECTROCONDUCTEUR TRANSPARENT, ET LIQUIDE DE PLACAGE POUR ÉLECTRODÉPOSITION
(JA) 透明導電膜の形成方法及び電解メッキ用メッキ液
要約:
(EN) The present invention addresses the problem of providing a method for forming a transparent electroconductive film, whereby a transparent electroconductive film can be formed which has excellent electrical conductivity and in which a thickness increase due to plating is suppressed, and a plating liquid for electroplating. The problem addressed by the present invention is solved by: a method for forming a transparent electroconductive film, the method comprising forming a transparent electroconductive film intermediate comprising an electroconductive thin wire on a transparent substrate by a printing method, and then performing electroplating on the transparent electroconductive film intermediate, an oxidizing agent being contained in a plating liquid used in the electroplating in the method for forming a transparent electroconductive film; and a plating liquid for electroplating, the plating liquid containing an oxidizing agent.
(FR) La présente invention aborde le problème consistant à fournir un procédé de formation d'un film électroconducteur transparent, grâce auquel un film électroconducteur transparent peut être formé qui présente une excellente conductivité électrique et dans lequel une augmentation de l'épaisseur provoquée par le placage est supprimée, et un liquide de placage pour électrodéposition. Le problème abordé par la présente invention est résolu par : un procédé de formation d'un film électroconducteur transparent, le procédé comprenant la formation d'un intermédiaire de film électroconducteur transparent comprenant un fil mince électroconducteur sur un substrat transparent par un procédé d'impression, puis la réalisation d'une électrodéposition sur l'intermédiaire de film électroconducteur transparent, un agent oxydant étant contenu dans un liquide de placage utilisé dans l'électrodéposition du procédé de formation d'un film électroconducteur transparent; et un liquide de placage pour électrodéposition, le liquide de placage contenant un agent oxydant.
(JA) 本発明は、導電性に優れ且つメッキ太りが抑制された透明導電膜を形成できる透明導電膜の形成方法及び電解メッキ用メッキ液を提供することを課題とし、当該課題は、印刷法によって透明基材上に導電性細線からなる透明導電膜中間体を形成し、次いで、前記透明導電膜中間体に電解メッキを施して透明導電膜を形成する透明導電膜の形成方法であって、前記電解メッキに用いられるメッキ液に酸化剤が含有されている透明導電膜の形成方法、及び酸化剤を含有する電解メッキ用メッキ液により解決される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)