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1. (WO2018110086) 基板処理装置、排出方法およびプログラム
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国際公開番号: WO/2018/110086 国際出願番号: PCT/JP2017/038126
国際公開日: 21.06.2018 国際出願日: 23.10.2017
IPC:
H01L 21/304 (2006.01) ,H01L 21/683 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
304
機械的処理,例.研摩,ポリシング,切断
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
683
支持または把持のためのもの
出願人:
株式会社荏原製作所 EBARA CORPORATION [JP/JP]; 東京都大田区羽田旭町11番1号 11-1, Haneda Asahi-cho, Ohta-ku, Tokyo 1448510, JP
発明者:
豊村 直樹 TOYOMURA Naoki; JP
今村 聴 IMAMURA Akira; JP
代理人:
大野 聖二 OHNO Seiji; JP
松野 知紘 MATSUNO Tomohiro; JP
酒谷 誠一 SAKATANI Seiichi; JP
優先権情報:
2016-24031512.12.2016JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, DISCHARGE METHOD, AND PROGRAM
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ D'ÉVACUATION, ET PROGRAMME
(JA) 基板処理装置、排出方法およびプログラム
要約:
(EN) A substrate processing device is provided with: a first valve that is provided between a gas supply source and an air-water separation tank and that opens and closes a flow path for a gas supplied from the gas supply source; a second valve that opens and closes a flow path for a liquid discharged from the discharge port of the air-water separation tank; and a control unit for controlling the first valve and the second valve. The discharge port of the air-water separation tank is connected with the discharge port of a cleaning chamber for cleaning a substrate. When the first valve is open and a state is reached in which gas from the air-water separation tank cannot be discharged therefrom, the control unit controls the valves so that the first valve is closed after a preset gas supply time elapses and the second valve is closed after the first valve is closed.
(FR) L'invention concerne un dispositif de traitement de substrat comprenant : une première soupape qui est disposée entre une source d'alimentation en gaz et un réservoir de séparation air-eau et qui ouvre et ferme un trajet d'écoulement pour un gaz fourni par la source d'alimentation en gaz ; une seconde soupape qui ouvre et ferme un trajet d'écoulement pour un liquide évacué de l'orifice d'évacuation du réservoir de séparation air-eau ; et une unité de commande pour commander la première soupape et la seconde soupape. L'orifice d'évacuation du réservoir de séparation air-eau est raccordé à l'orifice d'évacuation d'une chambre de nettoyage destinée à nettoyer un substrat. Lorsque la première soupape est ouverte et qu'un état est atteint dans lequel le gaz provenant du réservoir de séparation air-eau ne peut pas en être évacué, l'unité de commande commande les soupapes de telle sorte que la première soupape est fermée après qu'un temps d'alimentation en gaz prédéfini s'est écoulé et que la seconde soupape est fermée après que la première soupape est fermée.
(JA) 気体供給源と気水分離槽との間に設けられ且つ気体供給源から供給される気体の流路を開閉する第1の弁と、気水分離槽の排出口から排出される液体の流路を開閉する第2の弁と、第1の弁と第2の弁を制御する制御部と、を備え、気水分離槽の排出口は、基板を洗浄する洗浄室の排出口と連通しており、制御部は、第1の弁が開いており且つ気水分離槽から気体が排出できない状態になった時から、予め設定された気体供給時間を経過した後に第1の弁を閉じ、第1の弁を閉じた後に第2の弁を閉じるよう制御する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)