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1. (WO2018110013) シャワーヘッド及び真空処理装置
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国際公開番号: WO/2018/110013 国際出願番号: PCT/JP2017/033502
国際公開日: 21.06.2018 国際出願日: 15.09.2017
IPC:
H01L 21/31 (2006.01) ,C23C 16/455 (2006.01) ,H01L 21/3065 (2006.01) ,H01L 21/318 (2006.01) ,H05H 1/46 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
31
半導体本体上への絶縁層の形成,例.マスキング用またはフォトリソグラフィック技術の使用によるもの;これらの層の後処理;これらの層のための材料の選択
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44
被覆の方法に特徴のあるもの
455
ガスを反応室に導入するため,または反応室のガス流を変えるために使われる方法に特徴があるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
306
化学的または電気的処理,例.電解エッチング
3065
プラズマエッチング;反応性イオンエッチング
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
31
半導体本体上への絶縁層の形成,例.マスキング用またはフォトリソグラフィック技術の使用によるもの;これらの層の後処理;これらの層のための材料の選択
314
無機物層,
318
窒化物からなるもの
H 電気
05
他に分類されない電気技術
H
プラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1
プラズマの生成;プラズマの取扱い
24
プラズマの発生
46
電磁界を用いるもの,例.高周波またはマイクロ波エネルギー
出願人:
株式会社アルバック ULVAC, INC. [JP/JP]; 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地 2500 Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543, JP
発明者:
神保 洋介 JINBO, Yosuke; JP
山本 良明 YAMAMOTO, Yoshiaki; JP
茶谷 宏紀 CHATANI, Hironori; JP
西方 靖 NISHIKATA, Osamu; JP
菊池 亨 KIKUCHI, Toru; JP
代理人:
大森 純一 OMORI, Junichi; JP
優先権情報:
2016-24108713.12.2016JP
発明の名称: (EN) SHOWER HEAD AND VACUUM PROCESSING DEVICE
(FR) POMME DE DOUCHE ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR LE VIDE
(JA) シャワーヘッド及び真空処理装置
要約:
(EN) [Problem] To make in-plane variation of plasma density uniform. [Solution] A shower head according to an embodiment of the present invention is provided with a head body and a shower plate. The head body has an internal space. The shower plate comprises a plurality of gas ejection openings in communication with the internal space, a gas ejection surface at which gas is ejected via the plurality of gas ejection openings, and a plurality of holes disposed on the gas ejection surface. The shower plate is configured such that the surface area of the plurality of holes becomes greater in a stepwise manner radially from the center of the gas ejection surface.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de réaliser une variation dans le plan de la densité de plasma uniforme. À cet effet, une pomme de douche selon un mode de réalisation de la présente invention est pourvue d'un corps de tête et d'une plaque de douche. Le corps de tête présente un espace interne. La plaque de douche comprend une pluralité d'ouvertures d'éjection de gaz en communication avec l'espace interne, une surface d'éjection de gaz au niveau de laquelle un gaz est éjecté par l'intermédiaire de la pluralité d'ouvertures d'éjection de gaz, et une pluralité de trous disposés sur la surface d'éjection de gaz. La plaque de douche est conçue de telle sorte que la surface de la pluralité de trous devient plus grande d'une manière pas à pas, radialement à partir du centre de la surface d'éjection de gaz.
(JA) 【課題】プラズマ密度の面内ばらつきの均一化。 【解決手段】本発明の一形態に係るシャワーヘッドは、ヘッド本体と、シャワープレートとを具備する。上記ヘッド本体は、内部空間を有する。上記シャワープレートは、上記内部空間に連通する複数のガス噴出口と、上記複数のガス噴出口からガスが噴出されるガス噴出面と、上記ガス噴出面に配置された複数の孔部とを有する。上記シャワープレートにおいては、上記ガス噴出面の中心から放射状に上記複数の孔部の表面積が段階的に大きくなるように構成されている。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)