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1. (WO2018109912) レーザーアニール装置、レーザーアニール方法及びマスク

Pub. No.:    WO/2018/109912    International Application No.:    PCT/JP2016/087432
Publication Date: Fri Jun 22 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Dec 16 00:59:59 CET 2016
IPC: H01L 21/20
Applicants: SAKAI DISPLAY PRODUCTS CORPORATION
堺ディスプレイプロダクト株式会社
Inventors: MATSUSHIMA, Yoshiaki
松島 吉明
UNO, Takeshi
宇野 剛史
SUGAWARA, Yuta
菅原 祐太
IMANISHI, Kota
今西 康太
NODERA, Nobutake
野寺 伸武
MATSUMOTO, Takao
松本 隆夫
Title: レーザーアニール装置、レーザーアニール方法及びマスク
Abstract:
スキャンムラを低減することができるレーザーアニール装置、レーザーアニール方法及びマスクを提供する。 複数の開口部の全部又は一部の開口部は、所定領域の一部の部分領域にレーザー光が照射されるように構成してあり、複数の開口部は、前記行方向に並ぶ一の行の開口部群を介してレーザー光が照射された所定領域と、前記行方向に並ぶ他の行の開口部群を介してレーザー光が照射された所定領域との間で、占有する領域が同一の部分領域におけるレーザー光の照射回数が等しく、かつ前記列方向に並ぶ開口部群のうち少なくとも二つの開口部の位置又は形状が異なるように構成してある。