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1. (WO2018105675) 剥離層の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/105675 国際出願番号: PCT/JP2017/043911
国際公開日: 14.06.2018 国際出願日: 07.12.2017
IPC:
C08G 73/10 (2006.01) ,B05D 7/00 (2006.01) ,B05D 7/24 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
73
グループ12/00~71/00に属さない,高分子の主鎖に酸素または炭素を有しまたは有せずに窒素を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
06
高分子の主鎖に窒素含有複素環を有する重縮合物;ポリヒドラジド;ポリアミド酸または類似のポリイミド前駆物質
10
ポリイミド;ポリエステル―イミド;ポリアミド―イミド;ポリアミド酸または類似のポリイミド前駆物質
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D
液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
7
液体または他の流動性材料を特定の表面に適用するかまたは特定の液体または他の流動性材料を適用するのに特に適した,フロック加工以外の,方法
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D
液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
7
液体または他の流動性材料を特定の表面に適用するかまたは特定の液体または他の流動性材料を適用するのに特に適した,フロック加工以外の,方法
24
特定の液体または他の流動性材料を適用するためのもの
出願人: NISSAN CHEMICAL CORPORATION[JP/JP]; 5-1, Nihonbashi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1036119, JP
発明者: EBARA Kazuya; JP
SHINDO Kazuya; JP
代理人: PATENT PROFESSIONAL CORPORATION EI-MEI PATENT OFFICE; GINZA OHTSUKA Bldg. 2F, 16-12, Ginza 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061, JP
優先権情報:
2016-23864208.12.2016JP
発明の名称: (EN) RELEASE LAYER PRODUCTION METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE COUCHE DE PELAGE
(JA) 剥離層の製造方法
要約:
(EN) A release layer production method is provided in which a substrate is coated with a release layer forming composition and is fired at a maximum temperature of no less than 400°C, wherein the release layer forming composition contains an organic solvent and a polyamic acid obtained by reacting a tetracarboxylic acid dianhydride component containing tetracarboxylic acid dianhydride represented in formula (1) and a diamine component containing at least one aromatic diamine selected from aromatic diamines having at least one hydroxy group in an ortho position of at least one amino group, aromatic diamines having at least one mercapto group in an ortho position of at least one amino group, and aromatic diamines having a carboxy group. (In the expression (1), X1 represents a tetravalent group selected from a tetravalent benzene ring, a tetravalent group comprising 2 or more benzene rings that have condensed with each other, and a tetravalent group comprising 2 or more benzene rings bonded together with a single bond.)
(FR) L'invention fournit un procédé de fabrication de couche de pelage selon lequel une composition pour formation de couche de pelage contenant un acide polyamique et un solvant organique, est appliquée sur un corps de base, et cuite à une température maximale de 400°C ou plus. Ledit acide polyamique est obtenu par réaction : d'un composant dianhydride d'acide tétracarboxylique contenant un dianhydride d'acide tétracarboxylique représenté par la formule (1); et d'un composant diamine qui contient un diamine aromatique possédant au moins un groupe hydroxy en position ortho d'au moins un groupe amino, un diamine aromatique possédant au moins un groupe mercapto en position ortho d'au moins un groupe amino, et au moins une sorte de diamine aromatique choisi parmi des diamines aromatiques possédant un groupe carboxy. (Dans la formule (1), X1 représente un cycle benzène tétravalent, un groupe tétravalent constitué par condensation d'au moins deux cycles benzène entre eux, et un groupe tétravalent choisi parmi des groupes tétravalents constitués par liaison d'au moins deux cycles benzène entre eux par l'intermédiaire d'une liaison simple.)
(JA) 式(1)で表されるテトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物成分と、少なくとも1つのアミノ基のオルト位に少なくとも1つのヒドロキシ基を有する芳香族ジアミン、少なくとも1つのアミノ基のオルト位に少なくとも1つのメルカプト基を有する芳香族ジアミン及びカルボキシ基を有する芳香族ジアミンから選ばれる少なくとも1種の芳香族ジアミンを含むジアミン成分とを反応させて得られるポリアミック酸、及び有機溶媒を含む剥離層形成用組成物を基体に塗布し、最高温度400℃以上で焼成する剥離層の製造方法を提供する。(式(1)中、X1は、4価のベンゼン環、2個以上のベンゼン環同士が縮環してなる4価の基、及び2個以上のベンゼン環同士が単結合を介して結合してなる4価の基から選ばれる4価の基を表す。)
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)