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1. (WO2018105674) 剥離層の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/105674 国際出願番号: PCT/JP2017/043907
国際公開日: 14.06.2018 国際出願日: 07.12.2017
IPC:
B05D 7/24 (2006.01) ,B05D 3/02 (2006.01) ,B05D 5/00 (2006.01) ,C08G 73/10 (2006.01) ,H01L 21/336 (2006.01) ,H01L 29/786 (2006.01)
出願人: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.[JP/JP]; 7-1, Kanda Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054, JP
発明者: EBARA Kazuya; JP
代理人: PATENT PROFESSIONAL CORPORATION EI-MEI PATENT OFFICE; GINZA OHTSUKA Bldg. 2F, 16-12, Ginza 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061, JP
優先権情報:
2016-23864708.12.2016JP
発明の名称: (EN) RELEASE LAYER PRODUCTION METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE COUCHE DE PELAGE
(JA) 剥離層の製造方法
要約:
(EN) A release layer production method is provided which involves a step for coating a substrate with a release layer forming composition and firing at a maximum temperature of no less than 400°C, wherein the release layer forming composition contains an organic solvent, and a polyamic acid having both ends derived from a tetracarboxylic acid, with either one or both of said ends sealed with 2-aminophenol.
(FR) L’invention fournit un procédé de fabrication de couche de pelage qui inclut une étape au cours de laquelle une composition pour formation de couche de pelage contenant un solvant organique, et un acide polyamique à deux terminaisons dérivées d’acide tétracarboxylique, l’une ou les deux terminaisons étant scellées par un 2-amino-phénol, est appliquée sur un corps de base, et cuite à une température maximale de 400°C ou plus.
(JA) テトラカルボン酸由来の両末端を有し、この両末端のいずれか一方又は両方が2-アミノフェノールで封止されているポリアミック酸と、有機溶媒とを含む剥離層形成用組成物を基体上に塗布し、最高温度400℃以上で焼成する工程を含む剥離層の製造方法を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)