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1. (WO2018105658) 近接露光装置及び近接露光方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/105658    国際出願番号:    PCT/JP2017/043825
国際公開日: 14.06.2018 国際出願日: 06.12.2017
IPC:
G03F 9/00 (2006.01), G02B 5/10 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
出願人: V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005 (JP)
発明者: KAWASHIMA Hironori; (JP)
代理人: EIKOH PATENT FIRM, P.C.; Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
優先権情報:
2016-238738 08.12.2016 JP
発明の名称: (EN) PROXIMITY EXPOSURE APPARATUS AND PROXIMITY EXPOSURE METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION DE PROXIMITÉ
(JA) 近接露光装置及び近接露光方法
要約: front page image
(EN)A proximity exposure apparatus is provided with: a plane mirror (68) having a mirror transformation unit (70) capable of correcting the curvature thereof; a CCD camera (30) capable of capturing images of a mask M-side alignment mark (Ma) and a workpiece (W)-side alignment mark (Wa); a storage unit (91) which stores an initial deviation component of the alignment mark (Wa), the initial deviation component being calculated from the angle of a principal ray (EL) with which the workpiece (W) is irradiated and a gap between the mask (M) and the workpiece (W) when a pattern of a first layer mask (M) is exposed; and a control device (90) which, when a pattern of a second or subsequent layer mask (M) is exposed, performs alignment adjustment using a workpiece (W)-side corrected alignment mark (Wa') obtained by offsetting the initial deviation component with respect to the workpiece (W)-side alignment mark (Wa) observed by the CCD camera (30), and the mask M-side alignment mark (Ma).
(FR)Un appareil d'exposition de proximité comprend : un miroir plan (68) pourvu d'une unité de transformation de miroir (70) pouvant corriger la courbure du miroir ; une caméra CCD (30) pouvant capturer des images d'une marque d'alignement (Ma) du côté d'un masque (M) et d'une marque d'alignement (Wa) du côté d'une pièce à usiner (W) ; une unité de stockage (91) qui stocke une composante de déviation initiale de la marque d'alignement (Wa), la composante de déviation initiale étant calculée à partir de l'angle d'un rayon principal (EL) auquel la pièce à usiner (W) est exposée et d'un espace entre le masque (M) et la pièce à usiner (W) lorsqu'un motif d'un masque (M) de première couche est exposé ; et un dispositif de commande (90) qui, lorsqu'un motif d'un masque (M) de deuxième couche ou d'une couche suivante est exposé, effectue un ajustement d'alignement en utilisant une marque d'alignement corrigée (Wa') du côté de la pièce à usiner (W) obtenue en décalant la composante de déviation initiale par rapport à la marque d'alignement (Wa) du côté de la pièce à usiner (W) observée par la caméra CCD (30), ainsi que la marque d'alignement (Ma) du côté du masque (M).
(JA)曲率を補正可能なミラー変形ユニット(70)を有する平面ミラー(68)と、マスクM側のアライメントマーク(Ma)とワーク(W)側のアライメントマーク(Wa)とを撮像可能なCCDカメラ(30)と、1層目のマスク(M)のパターンを露光する際におけるワーク(W)に照射される主光線(EL)の角度とマスク(M)及びワーク(W)間のギャップとから計算されるアライメントマーク(Wa)の初期ずれ成分を記憶する記憶部(91)と、2層目以降のマスク(M)のパターンを露光する際、CCDカメラ(30)により観測されるワーク(W)側のアライメントマーク(Wa)に対して初期ずれ成分をオフセットして得られたワーク(W)側の補正アライメントマーク(Wa´)と、マスクM側のアライメントマーク(Ma)とでアライメント調整する制御装置(90)と、を備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)