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1. (WO2018105418) インプリントシステム、および物品製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/105418 国際出願番号: PCT/JP2017/042311
国際公開日: 14.06.2018 国際出願日: 27.11.2017
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01)
出願人: CANON KABUSHIKI KAISHA[JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501, JP
発明者: YAMAMOTO, Kiyohito; JP
代理人: OHTSUKA, Yasunori; JP
OHTSUKA, Yasuhiro; JP
TAKAYANAGI, Jiro; JP
KIMURA, Shuji; JP
優先権情報:
2016-23977609.12.2016JP
発明の名称: (EN) IMPRINT SYSTEM AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD
(FR) SYSTÈME D'IMPRESSION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ARTICLE
(JA) インプリントシステム、および物品製造方法
要約: front page image
(EN) Provided is a replica manufacturing device which performs an imprint process for forming an imprint material pattern on a replica substrate using a master mold, fabricates a replica mold by processing the replica substrate with the pattern formed thereon, and transfers data relating to a condition concerning the imprint process to a management device. An imprint device acquires data from the management device, and performs an imprint process for forming an imprint material pattern on a substrate using the replica mold in accordance with the condition included in the acquired data.
(FR) L'invention concerne un dispositif de fabrication de réplique qui effectue un processus d'impression pour former un motif de matériau d'impression sur un substrat de réplique à l'aide d'un moule maître, fabrique un moule de réplique en traitant le substrat de réplique avec le motif formé sur celui-ci, et transfère les données relatives à une condition concernant le processus d'impression à un dispositif de gestion. Un dispositif d'impression acquiert les données à partir du dispositif de gestion, et effectue un processus d'impression pour former un motif de matériau d'impression sur un substrat à l'aide du moule de réplique conformément à la condition incluse dans les données acquises.
(JA) レプリカ製造装置は、マスターモールドを用いてレプリカ基板の上にインプリント材のパターンを形成するインプリント処理を行い、該パターンが形成されたレプリカ基板を加工することによりレプリカモールドを作製するとともに、インプリント処理に関する条件のデータを管理装置に転送する。インプリント装置は、管理装置からデータを取得し、該取得したデータに含まれる条件に従い、レプリカモールドを用いて基板の上のインプリント材のパターンを形成するインプリント処理を行う。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)