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1. (WO2018105346) フェノール性水酸基含有樹脂及びレジスト材料
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国際公開番号: WO/2018/105346 国際出願番号: PCT/JP2017/041225
国際公開日: 14.06.2018 国際出願日: 16.11.2017
IPC:
C08G 8/04 (2006.01) ,G03F 7/023 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
8
アルデヒドまたはケトンのフェノールのみとの重縮合体
04
アルデヒドの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
022
キノンジアジド
023
高分子キノンジアジド;高分子添加剤,例.結合剤
出願人:
DIC株式会社 DIC CORPORATION [JP/JP]; 東京都板橋区坂下三丁目35番58号 35-58, Sakashita 3-chome, Itabashi-ku, Tokyo 1748520, JP
発明者:
今田 知之 IMADA Tomoyuki; JP
佐藤 勇介 SATO Yusuke; JP
代理人:
河野 通洋 KONO Michihiro; JP
優先権情報:
2016-23846208.12.2016JP
発明の名称: (EN) RESIN CONTAINING PHENOLIC HYDROXY GROUP AND RESIST MATERIAL
(FR) RÉSINE CONTENANT UN GROUPE HYDROXY PHÉNOLIQUE ET MATÉRIAU DE RÉSERVE
(JA) フェノール性水酸基含有樹脂及びレジスト材料
要約:
(EN) Provided are: a resin containing phenolic hydroxy groups which is high in flowability and heat resistance and which, when used as a resist material, is excellent in terms of developability and dry-etching resistance; and a photosensitive composition, a curable composition, and a resist material each containing the resin containing phenolic hydroxy groups. Specifically, use is made of a resin containing phenolic hydroxy groups which is a product of the reaction of a compound (A) represented by structural formula (1) with an aldehyde compound (B). [In formula (1), the Ar1 moieties are each independently an optionally substituted aryl group and at least one of the Ar1 moieties includes an aromatic ring having a hydroxy group thereon; R1 is a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group; R2 is an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, an alkoxy group, or a halogen atom; and n is 0 or an integer of 1-4.]
(FR) L'invention concerne : une résine contenant des groupes hydroxy phénoliques qui présente une aptitude à l'écoulement et une résistance à la chaleur élevées et qui, lorsqu'elle est utilisée en tant que matériau de réserve, est excellente en termes d'aptitude au développement et de résistance à la gravure à sec ; et une composition photosensible, une composition durcissable et un matériau de réserve contenant chacun la résine contenant des groupes hydroxy phénoliques. Spécifiquement, on utilise une résine contenant des groupes hydroxy phénoliques qui est un produit de la réaction d'un composé (A) représenté par la formule développée (1) avec un composé aldéhyde (B). [Dans la formule (1), les fractions Ar1 sont chacune indépendamment un groupe aryle éventuellement substitué et au moins l'une des fractions Ar1 comprend un cycle aromatique ayant sur lui un groupe hydroxy ; R1 représente un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné aliphatique ; R2 représente un groupe hydrocarboné aliphatique éventuellement substitué, un groupe alcoxy, ou un atome d'halogène ; et n est 0 ou un nombre entier de 1 à 4.]
(JA) 流動性及び耐熱性が高く、レジスト材料として用いた場合の現像性や耐ドライエッチング性にも優れるフェノール性水酸基含有樹脂、これを含有する感光性組成物、硬化性組成物、及びレジスト材料を提供する。具体的には、下記構造式(1)[式中Arはそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基であり、Arのうち少なくとも一つは芳香環上に水酸基を有する。Rは水素原子又は脂肪族炭化水素基である。Rは置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子の何れかであり、nは0又は1~4の整数である。] で表される化合物(A)と、アルデヒド化合物(B)との反応物であるフェノール性水酸基含有樹脂を用いる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)