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1. (WO2018101463) 化合物、樹脂、組成物、パターン形成方法及び精製方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/101463 国際出願番号: PCT/JP2017/043284
国際公開日: 07.06.2018 国際出願日: 01.12.2017
IPC:
C07D 311/78 (2006.01) ,C08G 8/04 (2006.01) ,C08L 61/06 (2006.01) ,G02B 1/04 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/023 (2006.01) ,G03F 7/11 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 7/26 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
出願人: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.[JP/JP]; 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008324, JP
発明者: MIKI, Yasushi; JP
MAKINOSHIMA, Takashi; JP
ECHIGO, Masatoshi; JP
代理人: INABA, Yoshiyuki; JP
ONUKI, Toshifumi; JP
NAITO, Kazuhiko; JP
優先権情報:
2016-23489502.12.2016JP
発明の名称: (EN) COMPOUND, RESIN, COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, AND PURIFICATION METHOD
(FR) COMPOSÉ, RÉSINE, COMPOSITIONS, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE PURIFICATION
(JA) 化合物、樹脂、組成物、パターン形成方法及び精製方法
要約:
(EN) The present invention is a compound having a specific structure, a resin having structural units derived from said compound, various compositions containing said compound and/or said resin, and various methods in which said compositions are used.
(FR) L’invention concerne un composé qui possède une structure spécifique, une résine possédant une unité structurale dérivée de ce composé, diverses compositions comprenant ce composé et/ou cette résine, et divers procédés mettant en œuvre cette composition.
(JA) 本発明は、特定の構造を有する化合物、該化合物に由来する構成単位を有する樹脂、該化合物及び/又は該樹脂を含有する各種組成物、並びに該組成物を用いた各種方法である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)