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1. (WO2018101444) マグネトロンスパッタリング装置、及び、磁場形成装置
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国際公開番号: WO/2018/101444 国際出願番号: PCT/JP2017/043185
国際公開日: 07.06.2018 国際出願日: 30.11.2017
IPC:
C23C 14/35 (2006.01) ,H05H 1/46 (2006.01)
[IPC code unknown for C23C 14/35][IPC code unknown for H05H 1/46]
出願人:
国立研究開発法人産業技術総合研究所 NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY [JP/JP]; 東京都千代田区霞が関1丁目3番1号 3-1, Kasumigaseki 1-chome, Chiyoda-Ku, Tokyo 1008921, JP
発明者:
本村大成 MOTOMURA Taisei; JP
田原竜夫 TABARU Tatsuo; JP
笠嶋悠司 KASASHIMA Yuji; JP
上杉文彦 UESUGI Fumihiko; JP
代理人:
松尾憲一郎 MATSUO Kenichiro; JP
優先権情報:
2016-23223330.11.2016JP
発明の名称: (EN) MAGNETRON SPUTTERING DEVICE AND MAGNETIC FIELD FORMING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE PULVÉRISATION CATHODIQUE MAGNÉTRON ET DISPOSITIF DE FORMATION DE CHAMP MAGNÉTIQUE
(JA) マグネトロンスパッタリング装置、及び、磁場形成装置
要約:
(EN) Through the present invention, the structure of a magnetron sputtering device is simplified. The magnetron sputtering device according to the present invention is provided with a vacuum chamber, a sputtering target, an inner annular magnet, an outer annular magnet, and a yoke. The sputtering target is disposed in the vacuum chamber. The inner annular magnet is disposed on a back surface side of the sputtering target, and is provided with magnetic poles each having a different polarity in the vicinity of a central part and an outer edge part of the sputtering target, and thereby forms a loop-shaped magnetic flux intersecting with the central part and the outer edge part of the sputtering target and bulging toward the front surface side of the sputtering target. The outer annular magnet is disposed on the outside of the inner annular magnet on the back surface side of the sputtering target, and adjusts the loop-shaped magnetic flux in the vicinity of an outer edge of the sputtering target. The yoke retains the inner annular magnet and the outer annular magnet.
(FR) Grâce à la présente invention, la structure d'un dispositif de pulvérisation cathodique magnétron est simplifiée. Le dispositif de pulvérisation magnétron selon la présente invention est pourvu d'une chambre à vide, d'une cible de pulvérisation, d'un aimant annulaire interne, d'un aimant annulaire externe et d'une culasse. La cible de pulvérisation est placée dans la chambre à vide. L'aimant annulaire interne est placé sur un côté de surface arrière de la cible de pulvérisation, et est pourvu de pôles magnétiques ayant chacun une polarité différente au voisinage d'une partie centrale et d'une partie de bord externe de la cible de pulvérisation, et forme ainsi un flux magnétique en forme de boucle croisant la partie centrale et la partie de bord externe de la cible de pulvérisation cathodique et faisant saillie vers le côté de surface avant de la cible de pulvérisation. L'aimant annulaire externe est placé sur l'extérieur de l'aimant annulaire interne sur le côté de surface arrière de la cible de pulvérisation, et ajuste le flux magnétique en forme de boucle au voisinage d'un bord externe de la cible de pulvérisation. La culasse retient l'aimant annulaire interne et l'aimant annulaire externe.
(JA) マグネトロンスパッタリング装置の構成を簡略化する。 マグネトロンスパッタリング装置は、真空チャンバ、スパッタリングターゲット、内環状磁石、外環状磁石およびヨークを具備する。スパッタリングターゲットは、真空チャンバ内に配置される。内環状磁石は、スパッタリングターゲットの裏面側に配置されてスパッタリングターゲットの中央部および外縁部の近傍においてそれぞれ異なる極性の磁極を備えることによりスパッタリングターゲットの中央部および外縁部と交差してスパッタリングターゲットの表面側に膨出するループ状磁束を形成する。外環状磁石は、スパッタリングターゲットの裏面側における内環状磁石の外側に配置されてスパッタリングターゲットの外縁近傍におけるループ状磁束を調整する。ヨークは、内環状磁石および外環状磁石を保持する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)