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1. (WO2018101133) 蛍光X線分析装置
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国際公開番号: WO/2018/101133 国際出願番号: PCT/JP2017/041896
国際公開日: 07.06.2018 国際出願日: 21.11.2017
IPC:
G01N 23/223 (2006.01) ,G01N 23/207 (2018.01)
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
23
グループG01N21/00またはG01N22/00に包含されない波動性または粒子性放射線,例.X線,中性子線,の使用による材料の調査または分析
22
二次放射の測定によるもの
223
試料をX線で照射し螢光X線を測定するもの
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
23
グループG01N21/00またはG01N22/00に包含されない波動性または粒子性放射線,例.X線,中性子線,の使用による材料の調査または分析
20
放射線の回折の利用によるもの,例.結晶構造の調査のためのもの;放射線の反射の利用によるもの
207
検出器を用いた回折手段によるもの,例.分析用結晶または被分析結晶を中心におき1個または複数個の移動可能な検出器を周辺に配するもの
出願人:
株式会社リガク RIGAKU CORPORATION [JP/JP]; 東京都昭島市松原町3丁目9番12号 3-9-12, Matsubara-cho, Akishima-shi, Tokyo 1968666, JP
発明者:
迫 幸雄 SAKO, Yukio; JP
代理人:
特許業務法人はるか国際特許事務所 HARUKA PATENT & TRADEMARK ATTORNEYS; 東京都千代田区六番町3 六番町SKビル5階 Rokubancho SK Bldg. 5th Floor, 3, Rokubancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020085, JP
優先権情報:
2016-23445501.12.2016JP
発明の名称: (EN) X-RAY FLUORESCENCE ANALYZER
(FR) ANALYSEUR DE FLUORESCENCE X
(JA) 蛍光X線分析装置
要約:
(EN) The purpose of the present invention is to provide an X-ray fluorescence analyzer having a simple structure and being capable of rapidly performing highly accurate analysis. This X-ray fluorescence analyzer has: an X-ray source (100) that irradiates primary X rays on a sample (103); a spectroscopic element (120) that splits a secondary X ray generated from the sample (103); an energy-dispersive detector (110) that measures the intensity of the secondary X ray; a retracting mechanism (108) that retracts the spectroscopic element (120) from the secondary X ray path; a scanning mechanism (114) that continuously moves the detector (110) between an auxiliary measurement area (124) in which the secondary X ray is measured in a state in which the spectroscopic element (120) is retracted and a main measurement area (122) in which the split secondary X ray is measured; a storage device (116) that pre-stores ratios between background intensities measured in the auxiliary measurement area (124) and the background intensities measured in the main measurement area (122); and a calculation device (118) that performs correction and quantitative analysis, said correction comprising a value, being the background intensity in the auxiliary measurement area (124) multiplied by the ratio, being deducted from the measured intensity in the main measurement area (122).
(FR) Le but de la présente invention est de fournir un analyseur de fluorescence X possédant une structure simple et permettant d'effectuer rapidement une analyse de haute précision. Ledit analyseur de fluorescence X comprend : une source de rayons X (100) qui irradie des rayons X primaires sur un échantillon (103) ; un élément spectroscopique (120) qui divise un rayon X secondaire généré à partir de l'échantillon (103) ; un détecteur à dispersion d'énergie (110) qui mesure l'intensité du rayon X secondaire ; un mécanisme de rétraction (108) qui rétracte l'élément spectroscopique (120) à partir du trajet de rayons X secondaire ; un mécanisme de balayage (114) qui déplace en continu le détecteur (110) entre une zone de mesure auxiliaire (124) dans laquelle le rayon X secondaire est mesuré dans un état dans lequel l'élément spectroscopique (120) est rétracté et une zone de mesure principale (122) dans laquelle le rayon X secondaire divisé est mesuré ; un dispositif de mémorisation (116) qui pré-mémorise des rapports entre des intensités d'arrière-plan mesurées dans la zone de mesure auxiliaire (124) et les intensités d'arrière-plan mesurées dans la zone de mesure principale (122) ; et un dispositif de calcul (118) qui effectue une correction et une analyse quantitative, ladite correction comprenant une valeur, l'intensité d'arrière-plan dans la zone de mesure auxiliaire (124) étant multipliée par le rapport, étant déduit de l'intensité mesurée dans la zone de mesure principale (122).
(JA) 本発明は、簡素な構造を有し、高精度な分析を迅速に行うことが可能な蛍光X線分析装置を提供することを目的とする。 本発明の蛍光X線分析装置は、試料(103)に1次X線を照射するX線源(100)と、試料(103)から発生した2次X線を分光する分光素子(120)と、2次X線の強度を測定するエネルギー分散型の検出器(110)と、分光素子(120)を2次X線の経路から退避する退避機構(108)と、分光素子(120)が退避された状態で2次X線を測定する副測定領域(124)と、分光された2次X線を測定する主測定領域(122)との間で検出器(110)を連続的に移動する走査機構(114)と、副測定領域(124)で測定されたバックグラウンド強度と主測定領域(122)で測定されたバックグラウンド強度との比率を予め記憶する記憶装置(116)と、主測定領域(122)での測定強度から副測定領域(124)でのバックグラウンド強度に前記比率を乗じた値を差し引く補正をし、定量分析を行う演算装置(118)とを有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)