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1. (WO2018100724) スポットアレイ基板、核酸解析方法、及び核酸解析装置
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国際公開番号: WO/2018/100724 国際出願番号: PCT/JP2016/085823
国際公開日: 07.06.2018 国際出願日: 01.12.2016
IPC:
C12M 1/00 (2006.01) ,C12N 15/09 (2006.01) ,C12Q 1/68 (2006.01) ,G01N 21/64 (2006.01) ,G01N 33/50 (2006.01) ,G01N 37/00 (2006.01)
C 化学;冶金
12
生化学;ビール;酒精;ぶどう酒;酢;微生物学;酵素学;突然変異または遺伝子工学
M
酵素学または微生物学のための装置
1
酵素学または微生物学のための装置
C 化学;冶金
12
生化学;ビール;酒精;ぶどう酒;酢;微生物学;酵素学;突然変異または遺伝子工学
N
微生物または酵素;その組成物;微生物の増殖,保存,維持;突然変異または遺伝子工学;培地
15
突然変異または遺伝子工学;遺伝子工学に関するDNAまたはRNA,ベクター,例.プラスミド,またはその分離,製造または精製;そのための宿主の使用
09
組換えDNA技術
C 化学;冶金
12
生化学;ビール;酒精;ぶどう酒;酢;微生物学;酵素学;突然変異または遺伝子工学
Q
酵素または微生物を含む測定または試験方法そのための組成物または試験紙;その組成物を調製する方法;微生物学的または酵素学的方法における状態応答制御
1
酵素または微生物を含む測定または試験方法;そのための組成物;そのような組成物の製造方法
68
核酸を含むもの
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21
光学的手段,すなわち.赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
62
調査される材料が励起され,それにより光を発しまたは入射光の波長に変化を生ずるシステム
63
光学的励起
64
蛍光;燐光
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
33
グループ1/00から31/00に包含されない,特有な方法による材料の調査または分析
48
生物学的材料,例.血液,尿;血球計
50
生物学的材料,例.血液,尿,の化学分析;生物学的特異性を有する配位子結合方法を含む試験;免疫学的試験
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
37
このサブクラスの他のいずれのグループにも包含されない細部
出願人:
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
発明者:
板橋 直志 ITABASHI Naoshi; JP
横井 崇秀 YOKOI Takahide; JP
植松 千宗 UEMATSU Chihiro; JP
右高 園子 MIGITAKA Sonoko; JP
代理人:
平木 祐輔 HIRAKI Yusuke; JP
藤田 節 FUJITA Takashi; JP
渡辺 敏章 WATANABE Toshiaki; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) SPOT ARRAY SUBSTRATE, NUCLEIC ACID ANALYSIS METHOD, AND NUCLEIC ACID ANALYSIS DEVICE
(FR) SUBSTRAT DE RÉSEAU DE TACHES, PROCÉDÉ D’ANALYSE D’ACIDE NUCLÉIQUE, ET DISPOSITIF D’ANALYSE D’ACIDE NUCLÉIQUE
(JA) スポットアレイ基板、核酸解析方法、及び核酸解析装置
要約:
(EN) The present invention improves throughput of nucleic acid analysis by preventing a reduction in S/B associated with increasingly higher integration of a spot array substrate. The present invention proposes a spot array substrate for nucleic acid analysis, in which spots are disposed in an array arrangement on the surface of a first material, while a region other than where the spots exist is covered with a second material, wherein a surface area increasing structure in which the height varies in a direction perpendicular to the substrate is formed at the portion where the spots exist so that the actual surface area becomes greater than the area defined by the outlines of the spots as viewed from above the substrate.
(FR) La présente invention améliore le débit d’analyse d’acide nucléique en évitant une réduction en S/B associée à une intégration de plus en plus élevée d’un substrat de réseau de taches. La présente invention propose un substrat de réseau de taches pour l’analyse d’acide nucléique, dans laquelle des taches sont disposées en une configuration en réseau sur la surface d’un premier matériau, tandis qu’une région autre que celle où les taches existent est recouverte d’un second matériau, une structure d’accroissement de la surface dans laquelle la hauteur varie dans un sens perpendiculaire au substrat étant formée au niveau de la partie où les taches existent de sorte que la surface réelle devienne supérieure à la surface définie par les contours des taches telles que visualisées depuis le dessus du substrat.
(JA) スポットアレイ基板の高集積化に伴うS/B低下を防止して核酸解析スループットを向上する。 本開示は、第1の材料の表面にスポットがアレイ配置され、スポット以外の領域が第2の材料で被覆されている基板において、スポットを基板上方より見込んだときのスポットの外輪郭が規定する面積よりも実際の表面積が大きくなるように、基板に垂直な方向に対して高低差のある表面積増加構造をスポットの部分に形成した、核酸分析用スポットアレイ基板を提案する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)