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1. (WO2018088079) 化合物、薄膜形成用原料、薄膜の製造方法及びアミジン化合物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/088079 国際出願番号: PCT/JP2017/036318
国際公開日: 17.05.2018 国際出願日: 05.10.2017
IPC:
C07F 15/06 (2006.01) ,C07C 257/14 (2006.01) ,C23C 16/18 (2006.01)
C 化学;冶金
07
有機化学
F
炭素,水素,ハロゲン,酸素,窒素,硫黄,セレンまたはテルル以外の元素を含有する非環式,炭素環式または複素環式化合物
15
周期律表の第8族の元素を含有する化合物
06
コバルト化合物
C 化学;冶金
07
有機化学
C
非環式化合物または炭素環式化合物
257
カルボキシル基の二重結合で結合している酸素原子が,二重結合で結合している窒素原子で置き換えられていて,かつその窒素原子はそれ以上酸素原子と結合していないカルボキシル基を含有する化合物,例.イミノ―エーテル,アミジン
10
カルボキシル基の一方の酸素原子が窒素原子で置き換えられているもの,例.アミジン
14
アミジノ基の炭素原子が非環式炭素原子に結合しているもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
06
金属質材料の析出に特徴のあるもの
18
金属有機質化合物からのもの
出願人: ADEKA CORPORATION[JP/JP]; 2-35, Higashiogu 7-chome, Arakawa-ku, Tokyo 1168554, JP
発明者: YOSHINO, Tomoharu; JP
SUGIURA, Nana; JP
NISHIDA, Akihiro; JP
YAMASHITA, Atsushi; JP
代理人: SOGA, Michiharu; JP
KAJINAMI, Jun; JP
OHYA, Kazuhiro; JP
優先権情報:
2016-21774908.11.2016JP
発明の名称: (EN) COMPOUND, STARTING MATERIAL FOR THIN FILM FORMATION, THIN FILM PRODUCTION METHOD, AND AMIDINE COMPOUND
(FR) COMPOSÉ, MATÉRIAU DE DÉPART POUR FORMATION DE COUCHE MINCE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COUCHE MINCE ET COMPOSÉ D'AMIDINE
(JA) 化合物、薄膜形成用原料、薄膜の製造方法及びアミジン化合物
要約:
(EN) Provided is a starting material for thin film formation which comprises a compound represented by general formula (1). (In the formula, R1 denotes a straight- or branched-chain alkyl group having 1-5 carbon atoms, R2 denotes a hydrogen atom or a straight- or branched-chain alkyl group having 1-5 carbon atoms, R3 and R4 each independently denote a straight- or branched-chain alkyl group having 1-5 carbon atoms, A denotes an alkane diyl group having 1-4 carbon atoms, and M denotes copper, iron, nickel, cobalt or manganese.)
(FR) La présente invention concerne un matériau de départ pour la formation de couches minces qui contient un composé représenté par la formule générale (1). (Dans la formule, R 1 représente un groupe alkyle à chaîne droite ou ramifiée ayant 1 à 5 atomes de carbone, R 2 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle à chaîne droite ou ramifiée ayant 1 à 5 atomes de carbone, R 3 et R 4 représentent chacun indépendamment un groupe alkyle à chaîne droite ou ramifiée ayant 1 à 5 atomes de carbone, A représente un groupe alcane diyle ayant de 1 à 4 atomes de carbone, et M représente le cuivre, le fer, le nickel, le cobalt ou le manganèse.)
(JA) 下記一般式(1):(式中、R1は炭素原子数1~5の直鎖又は分岐状のアルキル基を表し、R2は水素又は炭素原子数1~5の直鎖又は分岐状のアルキル基を表し、R3及びR4は各々独立に炭素原子数1~5の直鎖又は分岐状のアルキル基を表し、Aは炭素原子数1~4のアルカンジイル基を表し、Mは銅、鉄、ニッケル、コバルト又はマンガンを表す。)で表される化合物を含有してなる薄膜形成用原料。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)