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1. (WO2018088015) 複層式陰イオン交換塔の再生方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/088015 国際出願番号: PCT/JP2017/032488
国際公開日: 17.05.2018 国際出願日: 08.09.2017
IPC:
B01J 49/07 (2017.01) ,B01J 41/05 (2017.01) ,B01J 41/07 (2017.01) ,B01J 47/02 (2017.01) ,B01J 49/57 (2017.01) ,C02F 1/42 (2006.01)
出願人: KURITA WATER INDUSTRIES LTD.[JP/JP]; 10-1, Nakano 4-chome, Nakano-ku, Tokyo 1640001, JP
発明者: CHUUMAN, Takaaki; JP
HORII, Shigeki; JP
代理人: SHIGENO, Tsuyoshi; JP
SHIGENO, Takayuki; JP
優先権情報:
2016-21987510.11.2016JP
発明の名称: (EN) REGENERATION METHOD FOR MULTILAYER ANION EXCHANGE COLUMN
(FR) PROCÉDÉ DE RÉGÉNÉRATION POUR COLONNE D'ÉCHANGE D'ANIONS MULTICOUCHE
(JA) 複層式陰イオン交換塔の再生方法
要約: front page image
(EN) A method for regenerating a weakly basic anion exchange resin and a strongly basic anion exchange resin by passing a regeneration agent through a multilayer anion exchange column provided with a weakly basic anion exchange resin layer and a strongly basic anion exchange resin layer in which water to be processed was passed in sequence from the weakly basic anion exchange resin layer to the strongly basic anion exchange resin layer, wherein a first regeneration step is performed in which the regeneration agent is passed only through the weakly basic anion exchange resin layer, or is passed in sequence from the strongly basic anion exchange resin layer to the weakly basic anion exchange resin layer, and then a second regeneration step is performed in which the strongly basic anion exchange resin layer is regenerated, whereby gelatinization of the silica is suppressed and regeneration is performed efficiently.
(FR) L'invention concerne un procédé de régénération d'une résine échangeuse d'anions faiblement basique et une résine échangeuse d'anions fortement basique par passage d'un agent de régénération à travers une colonne d'échange d'anions multicouche pourvue d'une couche de résine échangeuse d'anions faiblement basique et d'une couche de résine échangeuse d'anions fortement basique dans laquelle l'eau à traiter a été passée en séquence de la couche de résine échangeuse d'anions faiblement basique à la couche de résine échangeuse d'anions fortement basique, le procédé comprenant une première étape de régénération dans laquelle l'agent de régénération est passé uniquement à travers la couche de résine échangeuse d'anions faiblement basique, ou passe successivement de la couche de résine échangeuse d'anions fortement basique à la couche de résine échangeuse d'anions faiblement basique, puis une seconde étape de régénération dans laquelle la couche de résine échangeuse d'anions fortement basique est régénérée, ce par quoi la gélatinisation de la silice est supprimée et la régénération est effectuée efficacement.
(JA) 弱塩基性陰イオン交換樹脂層と強塩基性陰イオン交換樹脂層を備え、被処理水が弱塩基性陰イオン交換樹脂層から強塩基性陰イオン交換樹脂層の順に通水された複層式陰イオン交換塔に再生剤を通水して該弱塩基性陰イオン交換樹脂及び強塩基性陰イオン交換樹脂を再生する方法において、再生剤を弱塩基性陰イオン交換樹脂層のみに通液するもしくは強塩基性陰イオン交換樹脂層→弱塩基性陰イオン交換樹脂層の順で通液する第1再生工程を行った後に、強塩基性陰イオン交換樹脂層を再生する第2再生工程を行うことにより、シリカのゲル化を抑制して、効率的な再生を行う。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)