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1. (WO2018079525) 機能性膜
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国際公開番号:    WO/2018/079525    国際出願番号:    PCT/JP2017/038287
国際公開日: 03.05.2018 国際出願日: 24.10.2017
IPC:
G02B 1/118 (2015.01), B32B 3/30 (2006.01), B32B 27/30 (2006.01), C08G 65/22 (2006.01), C08G 65/32 (2006.01), G02B 1/18 (2015.01)
出願人: DAIKIN INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; Umeda Center Building, 4-12, Nakazaki-Nishi 2-Chome, Kita-ku, Osaka-Shi, Osaka 5308323 (JP)
発明者: YAMASHITA, Tsuneo; (JP).
SAKAMOTO, Eiji; (JP).
NII, Saya; (JP).
SAKAKURA, Atsushi; (JP)
代理人: YASUTOMI & ASSOCIATES; 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003 (JP)
優先権情報:
2016-209011 25.10.2016 JP
発明の名称: (EN) FUNCTIONAL FILM
(FR) FILM FONCTIONNEL
(JA) 機能性膜
要約: front page image
(EN)Provided is a functional film which has a desired microrelief pattern structure, while having excellent antifouling properties, water repellency and oil repellency, and wherein the characteristics of a resin serving as a base material that imparts the functional film with a function are sufficiently exhibited. This functional film comprises a layer (A) that contains a resin and a layer (B) that contains a compound having a perfluoropolyether group, and is characterized in that: a surface of the layer (B) has a microrelief pattern structure, said surface being on the reverse side of the layer (A)-side surface; relational expression (1) is satisfied in cases where an elemental analysis is carried out by X-ray photoelectron spectroscopy, while etching the functional film from the layer (B) side by means of an argon gas cluster ion beam; and relational expression (2) is satisfied in cases where the carbon 1s spectrum is measured by X-ray photoelectron spectroscopy, while etching the functional film from the layer (B) side by means of an argon gas cluster ion beam. Relational expression (1): D1 < 2 × X1 (In the formula, X1 represents the film thickness (nm) of the layer (B); and D1 represents the depth (nm) at which the fluorine atom concentration falls to 1 atom% or less.) Relational expression (2): D2 < 2 × X1 (In the formula, X1 represents the film thickness (nm) of the layer (B); and D2 represents the depth (nm) at which a peak is not detected within a binding energy range of from 290 eV to 300 eV.)
(FR)L'invention concerne un film fonctionnel qui a une structure de motif de microrelief souhaitée, tout en ayant d'excellentes propriétés antisalissures, un caractère hydrofuge et un caractère oléofuge, et les caractéristiques d'une résine servant de matériau de base qui confère au film fonctionnel une fonction sont suffisamment présentées. Ce film fonctionnel comprend une couche (A) qui contient une résine et une couche (B) qui contient un composé ayant un groupe perfluoropolyéther, et est caractérisée en ce que : une surface de la couche (B) a une structure de motif à microrelief, ladite surface étant sur le côté inverse de la surface côté couche (A); l'expression relationnelle (1) est satisfaite dans les cas où une analyse élémentaire est réalisée par spectroscopie photoélectronique à rayons X, tout en gravant le film fonctionnel à partir de la couche (B) côte au moyen d'un faisceau d'ions de grappe de gaz argon; et une expression relationnelle (2) est satisfaite dans les cas où le spectre de 1s du carbone est mesuré par spectroscopie photoélectronique à rayons X, tout en gravant le film fonctionnel à partir du côté de la couche (B) au moyen d'un faisceau d'ions en grappe de gaz argon. Expression relationnelle (1) : D1 < 2 × X1 (dans la formule, X1 représente l'épaisseur du film (nm) de la couche (B); et D1 représente la profondeur (nm) au niveau de laquelle la concentration en atomes de fluor tombe 1 % atomique ou moins.) Expression relationnelle (2) : D2 < 2 × X1 (dans la formule, X1 représente l'épaisseur du film (nm) de la couche (B); et D2 représente la profondeur (nm) au niveau de laquelle un pic n'est pas détecté à l'intérieur une plage D'énergie de liaison allant de 290 eV à 300 eV.)
(JA)所望の微細凹凸パターン構造を有しており、機能性膜に機能を付与するための主材としての樹脂が有する特性が充分に発揮され、しかも、優れた防汚性、撥水性及び撥油性を有する機能性膜を提供する。樹脂を含む層(A)、及び、パーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含む層(B)を含む機能性膜であって、層(B)の層(A)とは反対側の面に微細凹凸パターン構造を有しており、アルゴンガスクラスターイオンビームにより層(B)側からエッチングしながら、X線光電子分光法により元素分析した場合に、関係式(1)を充足し、かつ、アルゴンガスクラスターイオンビームにより層(B)側からエッチングしながら、X線光電子分光法により炭素の1sスペクトルを測定した場合に、関係式(2)を充足することを特徴とする機能性膜である。 関係式(1):D1<2×X1 (式中、X1は層(B)の膜厚(nm)を表し、D1はフッ素原子濃度が1atom%以下になる深さ(nm)を表す。) 関係式(2):D2<2×X1 (式中、X1は層(B)の膜厚(nm)を表し、D2は結合エネルギー290~300eVの範囲内にピークが検出されなくなる深さ(nm)を表す。)
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)