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1. (WO2018074418) cBN形成体およびcBN膜の製造方法

Pub. No.:    WO/2018/074418    International Application No.:    PCT/JP2017/037370
Publication Date: Fri Apr 27 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Tue Oct 17 01:59:59 CEST 2017
IPC: C23C 16/38
B23B 27/14
B32B 9/00
C23C 16/50
Applicants: NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION NAGOYA UNIVERSITY
国立大学法人名古屋大学
KATAGIRI ENGINEERING CO., LTD.
株式会社片桐エンジニアリング
NAGOYA INDUSTRIES PROMOTION CORPORATION
公益財団法人名古屋産業振興公社
Inventors: HORI Masaru
堀 勝
DEN Shoji
田 昭治
YAMAKAWA Koji
山川 晃司
YAMAMOTO Hiroyuki
山本 博之
TAKASHIMA Seigo
高島 成剛
NONOYAMA Yoshiaki
野々山 芳明
Title: cBN形成体およびcBN膜の製造方法
Abstract:
【課題】 基材とcBN膜との間の密着性の高いcBN膜を高効率に成膜するcBN膜の製造方法およびcBN形成体を提供することである。 【解決手段】 cBN膜の製造方法は、基板110の上にホウ素層130を形成するホウ素層形成工程と、ホウ素層130の上にホウ素原子と窒素原子とを含有する混合層140を形成する混合層形成工程と、混合層140の上にcBN膜150を形成するcBN膜形成工程と、を有する。ホウ素層形成工程および混合層形成工程およびcBN膜形成工程では、プラズマを発生させた状態で成膜を行う。混合層形成工程では、ホウ素原子を含むガスと窒素ガスと希ガスとを基板110に供給する。そして、窒素ガスの流量と希ガスの流量との合計の流量を一定としつつ窒素ガスの流量を増加させ、基板110から遠ざかるほど窒素原子の割合の多い混合層140を形成する。