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1. (WO2018074358) レジストパターン被覆用水溶液及びそれを用いたパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/074358 国際出願番号: PCT/JP2017/037190
国際公開日: 26.04.2018 国際出願日: 13.10.2017
IPC:
G03F 7/32 (2006.01) ,C08K 5/42 (2006.01) ,C08L 5/16 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 7/40 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
出願人: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.[JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054, JP
発明者: NISHITA, Tokio; JP
SAKAMOTO, Rikimaru; JP
代理人: HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062, JP
優先権情報:
2016-20548819.10.2016JP
発明の名称: (EN) AQUEOUS SOLUTION FOR RESIST PATTERN COATING AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME
(FR) SOLUTION AQUEUSE POUR REVÊTEMENT DE MOTIFS DE RÉSERVE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS UTILISANT LADITE SOLUTION
(JA) レジストパターン被覆用水溶液及びそれを用いたパターン形成方法
要約: front page image
(EN) [Problem] To provide a novel aqueous solution for resist pattern coating. [Solution] An aqueous solution for resist pattern coating, which contains a cyclodextrin selected from the group consisting of α-cyclodextrin, β-cyclodextrin and γ-cyclodextrin, or a derivative of the cyclodextrin (component A), a solvent mainly composed of water (component B), and optionally, an organic sulfonic acid represented by formula (2) or a salt thereof (component C), and wherein the content ratio of the component A relative to 100% by mass of the whole aqueous solution is from 0.1% by mass to 10% by mass and the content ratio of the organic sulfonic acid or a salt thereof relative to 100% by mass of the component A is from 0.01% by mass to 50% by mass. (In the formula, R4 represents an alkyl group, a fluorinated alkyl group or an aromatic group having at least one substituent; and M+ represents a hydrogen ion, an ammonium ion, a pyridinium ion or an imidazolium ion.)
(FR) La présente invention a pour objet une nouvelle solution aqueuse pour un revêtement de motifs de réserve. Pour ce faire, une solution aqueuse pour un revêtement de motifs de réserve contient une cyclodextrine sélectionnée parmi le groupe constitué de α-cyclodextrine, β-cyclodextrine et γ-cyclodextrine, ou un dérivé de la cyclodextrine (composant A), un solvant composé principalement d’eau (composant B), et facultativement, un acide sulfonique organique représenté par la formule (2) ou un sel de celui-ci (composant C), le rapport de teneur du composant A relativement à 100 % en masse de toute la solution aqueuse variant de 0,1 % en masse à 10 % en masse tandis que le rapport de teneur de l’acide sulfonique organique ou d’un sel de celui-ci relativement à 100 % en masse du composant A varie de 0,01 % en masse à 50 % en masse. (Dans la formule, R4 représente un groupe alkyle, un groupe alkyle fluoré ou un groupe aromatique ayant au moins un substituant ; et M+ représente un ion hydrogène, un ion ammonium, un ion pyridinium ou un ion imidazolium.)
(JA) 【課題】 新規なレジストパターン被覆用水溶液を提供する。 【解決手段】 A成分:α-シクロデキストリン、β-シクロデキストリン及びγ-シクロデキストリンからなる群から選択されるシクロデキストリン、又は前記シクロデキストリンの誘導体、B成分:水を主成分とする溶剤、及び任意でC成分:下記式(2)で表される有機スルホン酸又はその塩を含み、水溶液全体100質量%に対して前記A成分の含有割合は0.1質量%乃至10質量%であり、前記有機スルホン酸又はその塩の含有割合は前記A成分100質量%に対して0.01質量%乃至50質量%である、レジストパターン被覆用水溶液。(式中、Rはアルキル基もしくはフッ化アルキル基、又は置換基を少なくとも1つ有する芳香族基を表し、Mは水素イオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン又はイミダゾリウムイオンを表す。)
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)