WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2018074322) プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の制御方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2018/074322    国際出願番号:    PCT/JP2017/037016
国際公開日: 26.04.2018 国際出願日: 12.10.2017
IPC:
H05H 1/46 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1 Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP).
TOHOKU UNIVERSITY [JP/JP]; 2-1-1, Katahira, Aoba-ku, Sendai-shi, Miyagi 9808577 (JP)
発明者: HIRAYAMA Masaki; (JP)
代理人: HASEGAWA Yoshiki; (JP).
KUROKI Yoshiki; (JP).
KASHIOKA Junji; (JP)
優先権情報:
2016-205289 19.10.2016 JP
発明の名称: (EN) PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING PLASMA PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA ET PROCÉDÉ DE COMMANDE D'APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA
(JA) プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の制御方法
要約: front page image
(EN)A plasma processing apparatus of the present embodiment is provided with: a grounded processing container; a placement stand that supports an object to be processed inside the processing container; a plurality of electrodes disposed so as to face opposite the placement stand of the processing container, said plurality of electrodes being mutually insulated; a high frequency power supply that supplies high frequency power for plasma generation, said high frequency power supply being electrically connected between two different electrodes among the plurality of electrodes, or between one electrode among the plurality of electrodes and the processing container; and an impedance variable circuit that can control impedance, said impedance variable circuit being electrically connected between two different electrodes among the plurality of electrodes, or between one electrode among the plurality of electrodes and the processing container.
(FR)L'invention, selon un mode de réalisation, concerne un appareil de traitement au plasma doté : d'un récipient de traitement mis à la terre ; d'un support de placement qui supporte un objet à traiter à l'intérieur du récipient de traitement ; de plusieurs électrodes disposées de façon à faire face au support de placement du récipient de traitement, lesdites plusieurs électrodes étant mutuellement isolées ; d'une alimentation électrique haute fréquence qui fournit une puissance haute fréquence permettant une génération de plasma, ladite alimentation électrique haute fréquence étant connectée électriquement entre deux électrodes différentes parmi les plusieurs électrodes, ou entre une électrode parmi les plusieurs électrodes et le récipient de traitement ; et d'un circuit à impédance variable qui peut commander l'impédance, ledit circuit à impédance variable étant électriquement connecté entre deux électrodes différentes parmi les plusieurs électrodes, ou entre une électrode parmi les plusieurs électrodes et le récipient de traitement.
(JA)一実施形態のプラズマ処理装置は、接地された処理容器と、処理容器の内部にて被処理体を支持する載置台と、処理容器の載置台と対面するように配置された複数の電極であり、互いに絶縁された、該複数の電極と、プラズマ生成用の高周波電力を供給する高周波電源であり、複数の電極のうち異なる2つの電極の間、又は、複数の電極のうちの1つの電極と処理容器との間に電気的に接続された、該高周波電源と、インピーダンスを制御可能なインピーダンス可変回路であり、複数の電極のうち異なる2つの電極の間、又は、複数の電極のうちの1つの電極と処理容器との間に電気的に接続された、該インピーダンス可変回路と、を備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)