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1. (WO2018074308) 光塩基発生剤および感光性組成物
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国際公開番号: WO/2018/074308 国際出願番号: PCT/JP2017/036914
国際公開日: 26.04.2018 国際出願日: 12.10.2017
IPC:
C09K 3/00 (2006.01) ,C08G 59/40 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01)
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
K
他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用
3
物質であって,他に分類されないもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
59
1分子中に1個より多くのエポキシ基を含有する重縮合物;エポキシ重縮合物と単官能性低分子量化合物との反応によって得られる高分子化合物;エポキシ基と反応する硬化剤または触媒を用いて1分子中に1個より多くのエポキシ基を含有する化合物を重合することにより得られる高分子化合物
18
エポキシ基と反応する硬化剤または触媒を用いて1分子中に1個より多くのエポキシ基を含む化合物を重合することにより得られる高分子化合物
40
用いられた硬化剤に特徴のあるもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
出願人:
サンアプロ株式会社 SAN-APRO LTD. [JP/JP]; 京都府京都市東山区一橋野本町11番地 11, Ikkyo Nomoto-cho, Higashiyama-ku, Kyoto-shi Kyoto 6050995, JP
発明者:
白石 篤志 SHIRAISHI Atsushi; JP
代理人:
林 博史 HAYASHI Hiroshi; JP
優先権情報:
2016-20486919.10.2016JP
発明の名称: (EN) PHOTO-BASE GENERATOR AND PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
(FR) GÉNÉRATEUR DE PHOTOBASES ET COMPOSITION PHOTOSENSIBLE
(JA) 光塩基発生剤および感光性組成物
要約:
(EN) Provided are: a photo-base generator which upon reception of light, can efficiently generate an amine having high catalytic activity and which has no fear of metal corrosion; and a photosensitive composition containing the photo-base generator. The photo-base generator of the present invention is characterized by comprising an ammonium borate compound (A) represented by the general formula. [In the formula, R1 to R4 are each independently a C1-18 alkyl group, a phenyl group, or a naphthyl group, some of the hydrogen atoms of the phenyl or naphthyl group each having been optionally replaced with a C1-18 alkyl group, a C6-14 aryl group, etc.; R5 is a polyalkyleneoxy group, the terminal of the polyalkyleneoxy group being a hydrogen atom, a C1-4 alkyl group, or a phenyl group; R6 and R7 are each independently a methyl or ethyl group; Ar is a C6-14 aryl group; and Q is a divalent group through which the Ar is bonded to the cationic nitrogen atom.]
(FR) L'invention concerne : un générateur de photobases qui, à réception de lumière, peut efficacement générer une amine ayant une activité catalytique élevée, sans risque de corrosion métallique ; et une composition photosensible le contenant. Le générateur de photobases selon la présente invention est caractérisé en ce qu'il comprend un composé de borate d'ammonium (A) représenté par la formule générale. [Dans la formule, R1 à R4 sont chacun indépendamment un groupe alkyle C1-18, un groupe phényle ou un groupe naphtyle, certains des atomes d'hydrogène du groupe phényle ou naphtyle ayant chacun éventuellement été remplacé par un groupe alkyle C1-18, un groupe aryle C6-14, etc. ; R5 est un groupe polyalkylèneoxy, la terminaison du groupe polyalkylèneoxy étant un atome d'hydrogène, un groupe alkyle C1-4, ou un groupe phényle ; R6 et R7 sont chacun indépendamment un groupe méthyle ou éthyle ; Ar est un groupe aryle C6-14 ; et Q est un groupe divalent par l'intermédiaire duquel Ar est lié à l'atome d'azote cationique].
(JA) 光を感光して効率よく触媒活性の高いアミンを発生させることができ、金属腐食の懸念がない光塩基発生剤:及び該光塩基発生剤を含有する感光性組成物を提供する。本発明は、下記一般式で表されるアンモニウムボレート塩化合物(A)を含むことを特徴とする光塩基発生剤である。 〔式中、R~Rは互いに独立して、炭素数1~18のアルキル基、フェニル基またはナフチル基であり、フェニル基またはナフチル基の水素原子の一部が、炭素数1~18のアルキル基、炭素数6~14のアリール基等で置換されていてもよく、Rはポリアルキレンオキシ基であり、ポリアルキレンオキシ基の末端は水素原子、炭素数1~4のアルキル基またはフェニル基であり、R~Rは互いに独立して、メチル基またはエチル基であり、Arは炭素数6~14のアリール基であり、QはArとカチオン性窒素原子とを結合する2価の基である。〕
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)