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1. (WO2018074106) レーザリフトオフ装置及びレーザリフトオフ方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/074106 国際出願番号: PCT/JP2017/032916
国際公開日: 26.04.2018 国際出願日: 12.09.2017
IPC:
B23K 26/57 (2014.01)
出願人: V TECHNOLOGY CO., LTD.[JP/JP]; 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005, JP
発明者: FUJIMORI, Yuya; JP
代理人: OGAWA, Moriaki; JP
NISHIYAMA, Haruyuki; JP
OKUYAMA, Shoichi; JP
優先権情報:
2016-20426318.10.2016JP
発明の名称: (EN) LASER LIFT-OFF DEVICE AND LASER LIFT-OFF METHOD
(FR) DISPOSITIF DE DÉCOLLAGE LASER ET PROCÉDÉ DE DÉCOLLAGE LASER
(JA) レーザリフトオフ装置及びレーザリフトオフ方法
要約: front page image
(EN) The present invention is a laser lift-off device for radiating laser light from a back surface of a transparent substrate to a sacrificial layer 5 on the substrate surface while moving the substrate and a laser irradiation optical system for radiating the laser light relative to each other, and peeling a layer to be peeled that is formed on the surface of the substrate, the laser irradiation optical system being configured so as to be capable of radiating laser light having a high intensity subsequent to radiating laser light having a low intensity among laser lights having different irradiation intensities to the sacrificial layer 5.
(FR) La présente invention est un dispositif de décollage laser pour faire rayonner une lumière laser depuis une surface arrière d'un substrat transparent vers une couche sacrificielle 5 sur la surface de substrat tout en déplaçant le substrat et un système optique d'irradiation laser pour faire rayonner la lumière laser l'un par rapport à l'autre, et à détacher une couche à détacher qui est formée sur la surface du substrat, le système optique d'irradiation laser étant conçu de façon à pouvoir faire rayonner une lumière laser ayant une intensité élevée suite à un rayonnement de lumière laser ayant une faible intensité parmi des lumières laser ayant différentes intensités d'irradiation par rapport à la couche sacrificielle 5.
(JA) 本発明は、透明な基板と、レーザ光を照射するレーザ照射光学系とを相対的に移動しながら、基板表面の犠牲層5に前記基板の裏面側からレーザ光を照射し、前記基板の表面に形成された被剥離層を剥離するレーザリフトオフ装置であって、前記レーザ照射光学系は、前記犠牲層5に対して、照射強度の異なるレーザ光のうち、強度の小さいレーザ光の照射に続いて強度の大きいレーザ光を照射可能に構成されたものである。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)