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1. (WO2018070349) 撮像パネル及びその製造方法
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国際公開番号: WO/2018/070349 国際出願番号: PCT/JP2017/036439
国際公開日: 19.04.2018 国際出願日: 06.10.2017
IPC:
H01L 27/146 (2006.01) ,G01T 1/20 (2006.01) ,H01L 27/144 (2006.01) ,H01L 29/786 (2006.01) ,H04N 5/32 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
14
赤外線,可視光,短波長の電磁波または粒子線輻射に感応する半導体構成部品で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御するかのどちらかに特に適用されるもの
144
輻射線によって制御される装置
146
固体撮像装置構造
G 物理学
01
測定;試験
T
原子核放射線またはX線の測定
1
X線,ガンマ線,微粒子線または宇宙線の測定
16
放射線強度の測定
20
シンチレーション検出器をもつもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
14
赤外線,可視光,短波長の電磁波または粒子線輻射に感応する半導体構成部品で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御するかのどちらかに特に適用されるもの
144
輻射線によって制御される装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
29
整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部(31/00~47/00,51/05が優先;半導体本体または電極以外の細部23/00;1つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品からなる装置27/00
66
半導体装置の型
68
整流,増幅またはスイッチされる電流を流さない電極に電流のみまたは電位のみを与えることにより制御できるもの
76
ユニポーラ装置
772
電界効果トランジスタ
78
絶縁ゲートによって生じる電界効果を有するもの
786
薄膜トランジスタ
H 電気
04
電気通信技術
N
画像通信,例.テレビジョン
5
テレビジョン方式の細部
30
光または類似信号から電気信号への変換
32
X線の変換
出願人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1 Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
発明者:
美崎 克紀 MISAKI, Katsunori; --
代理人:
川上 桂子 KAWAKAMI Keiko; JP
松山 隆夫 MATSUYAMA Takao; JP
優先権情報:
2016-20004911.10.2016JP
発明の名称: (EN) IMAGING PANEL AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) PANNEAU D'IMAGERIE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 撮像パネル及びその製造方法
要約:
(EN) Provided are: an imaging panel for X rays which is capable of suppressing leak current from a photoelectric conversion layer; and a manufacturing method therefor. An imaging panel 1 generates an image on the basis of scintillation light obtained from X rays having passed through an object. The imaging panel 1 comprises, on a substrate 101: a thin film transistor 13; an insulation film 103 covering the thin film transistor 13; a photoelectric conversion layer 15 that converts scintillation light to a charge; an upper electrode 14b; a lower electrode 14a connected to the thin film transistor 13; and a protective film 142 covering a side end of the lower electrode 14a.
(FR) L'invention concerne : un panneau d'imagerie pour rayons X qui est apte à supprimer un courant de fuite à partir d'une couche de conversion photoélectrique ; ainsi qu'un procédé de fabrication de ce panneau. Un panneau d'imagerie 1 génère une image sur la base d'une lumière de scintillation obtenue à partir de rayons X qui ont traversé un objet. Le panneau d'imagerie 1 comprend, sur un substrat 101 : un transistor à couches minces 13 ; un film d'isolation 103 recouvrant le transistor à couches minces 13 ; une couche de conversion photoélectrique 15 qui convertit une lumière de scintillation en une charge ; une électrode supérieure 14b ; une électrode inférieure 14a connectée au transistor à couches minces 13 ; ainsi qu'un film de protection 142 recouvrant une extrémité latérale de l'électrode inférieure 14a.
(JA) 光電変換層のリーク電流を抑制し得るX線の撮像パネル及びその製造方法を提供すること。撮像パネル1は、被写体を通過したX線から得られたシンチレーション光に基づいて画像を生成する。撮像パネル1は、基板101上に、薄膜トランジスタ13と、薄膜トランジスタ13を覆う絶縁膜103と、シンチレーション光を電荷に変換する光電変換層15と、上部電極14bと、薄膜トランジスタ13と接続された下部電極14aと、下部電極14aの側端部を覆う保護膜142と、を備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)