WO2018070349 撮像パネル及びその製造方法

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1. (WO2018070349) 撮像パネル及びその製造方法

国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号:	WO/2018/070349	国際出願番号:	PCT/JP2017/036439
国際公開日:	19.04.2018	国際出願日:	06.10.2017

IPC:

H01L 27/146 (2006.01) ,G01T 1/20 (2006.01) ,H01L 27/144 (2006.01) ,H01L 29/786 (2006.01) ,H04N 5/32 (2006.01)

出願人:

シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町１番地 1 Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP

発明者:

美崎　克紀 MISAKI, Katsunori; --

代理人:

川上　桂子 KAWAKAMI Keiko; JP

松山　隆夫 MATSUYAMA Takao; JP

優先権情報:

2016-200049

11.10.2016

発明の名称:

(EN) IMAGING PANEL AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) PANNEAU D'IMAGERIE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 撮像パネル及びその製造方法

要約:

(EN) Provided are: an imaging panel for X rays which is capable of suppressing leak current from a photoelectric conversion layer; and a manufacturing method therefor. An imaging panel 1 generates an image on the basis of scintillation light obtained from X rays having passed through an object. The imaging panel 1 comprises, on a substrate 101: a thin film transistor 13; an insulation film 103 covering the thin film transistor 13; a photoelectric conversion layer 15 that converts scintillation light to a charge; an upper electrode 14b; a lower electrode 14a connected to the thin film transistor 13; and a protective film 142 covering a side end of the lower electrode 14a.
(FR) L'invention concerne : un panneau d'imagerie pour rayons X qui est apte à supprimer un courant de fuite à partir d'une couche de conversion photoélectrique ; ainsi qu'un procédé de fabrication de ce panneau. Un panneau d'imagerie 1 génère une image sur la base d'une lumière de scintillation obtenue à partir de rayons X qui ont traversé un objet. Le panneau d'imagerie 1 comprend, sur un substrat 101 : un transistor à couches minces 13 ; un film d'isolation 103 recouvrant le transistor à couches minces 13 ; une couche de conversion photoélectrique 15 qui convertit une lumière de scintillation en une charge ; une électrode supérieure 14b ; une électrode inférieure 14a connectée au transistor à couches minces 13 ; ainsi qu'un film de protection 142 recouvrant une extrémité latérale de l'électrode inférieure 14a.
(JA) 光電変換層のリーク電流を抑制し得るＸ線の撮像パネル及びその製造方法を提供すること。撮像パネル１は、被写体を通過したＸ線から得られたシンチレーション光に基づいて画像を生成する。撮像パネル１は、基板１０１上に、薄膜トランジスタ１３と、薄膜トランジスタ１３を覆う絶縁膜１０３と、シンチレーション光を電荷に変換する光電変換層１５と、上部電極１４ｂと、薄膜トランジスタ１３と接続された下部電極１４ａと、下部電極１４ａの側端部を覆う保護膜１４２と、を備える。

指定国:

AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)

国際公開言語:

日本語 (JA)

国際出願言語:

日本語 (JA)

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